原子层沉积系统 ALD基本介绍 
 
 
 
PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200 Pro
 
 
（PICOSUN™ ALD R-200 S Pro）
 
 
原子层沉积系统（ ALD P-200）
 
 
 
 
 
 
 
 
名称：原子层沉积系统  产地：芬兰
 
 
 
 
 
Picosun简介
 
 
Picosun是yi家全球公司，Picosun的总部位于芬兰的Espoo，其生产设施位于芬兰的Masala（Kirkkonummi）。PICOSUN®ALD设备专为高产量和高产量而设计，并且不断发展以提高效率。Picosun适应性强其客户包括     大的电子制造商，小型的创新型挑战者以及全球ling先的大学。 Picosun的组织机构和种类繁多的ALD解决方案都可以满足每个客户的需求。PICOSUN®研发工具具有  的内置可扩展性，可确保将研究结果平稳过渡到大批量工业制造中，而不会出现技术差距。Picosun的热情在于创新。当您想与设备制造商共同创建定制的ALD解决方案，从而引ling行业发展时，Picosun是您的    。
 
 
 
 
 
PICOSUN™ P系列量产ALD系统定义了高产量ALD的新时代。我们全自动化、真空集群与产线兼容的P系列ALD确保了   大的产出效率，并且具有   的工艺纯度和薄膜均匀性，甚至能完全满足具有   严格要求的半导体行业标准。PICOSUN™ P系列ALD  紧凑的设计节约了昂贵的场地成本，系统的易维护性减少了停工期。对于系统的维护、工艺故障的排除，我们为客户提供专业的售后服务Picosupport™。根据用户的需求，确保每时每（24/7/365）快速提供全面的解决方案。在购买之前，我们提供做样服务，确保系统具有   好的性能，完全满足您的需求。
 
 
 
 
 
技术指标
 
 
 
 
 
衬底尺寸和类型
 
 
50 – 200 mm /单片
 
 
156 mm x 156 mm 太阳能硅片
 
 
150 mm x 150 mm 显示面板
 
 
工艺温度
 
 
50 - 500 °C , 可选更高温度
 
 
基片传送选件
 
 
气动升降（手动装载）
 
 
半自动装载，用PICOPLATFORM™200集群系统实现
 
 
25片晶圆盒对盒式全自动装载（cassette-to-cassette），用PICOPLATFORM™200集群系统实现
 
 
标准
 
 
SEMI S2 认证（认证中）
 
 
前驱体
 
 
液态, 固态, 气态, 臭氧源, 等离子体（   多4路气体）：
 
 
前驱源余量传感器，并提供清洗和装源服务
 
 
6根独立源管线，   多加载12个前驱体源（加上Plasma管路，共7根独立源管线）
 
 
重量
 
 
790 kg
 
 
尺寸 (W x H x D)
 
 
160 cm x 80 cm x 240 cm
 
 
可选件
 
 
集群工具, PICOFLOW™ 扩散增强器, 集成椭偏仪, QCM, RGA, N2发生器，尾气处理器，定制设计，与 工厂软件连接服务。
 
 
验收标准
 
 
标准设备验收标准为 Al2O3 工艺，
 
 
其他工艺可具体协商：其他工艺、应用具体验收标准如：
 
 
--不均匀性
 
 
--颗粒物含量
 
 
--重金属污染
 
 
--电学性能
 
 
 
 
 
 
 
 
应用领域
 
 
PICOSUN™ 200mm 生产线上的产品是200mm以下晶圆的自动化、高产量的工业ALD加工设备。包括PICOSUN™ P系列Pro ALD设备。该工具可以独立工作，也可以集成到PICOPLATFORM™200真空集群系统以达到  的产量和自动化水平。为了节约昂贵的设施空间，所有PICOSUN™的ALD系统有着紧凑，  的设计。集成的专业机柜，装载着前驱体和电子元件，保证了快速简便的维护和   短的停机时间。PICOSUN™ P系列Pro工具保证了   大产能以及   节约成本的情况下得到  的ALD工艺质量，并履行严格的现代半导体产业的生产力和安全要求。
 
 
 
 原子层沉积系统 ALD性能特点 
 

    
 
 
 原子层沉积系统 ALD技术参数 
 

    
 
 
 原子层沉积系统 ALD使用说明 
 

    
 
 
 原子层沉积系统 ALD采购须知