产量 | 10 |
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是否有现货 | 是 |
新旧程度 | 8成新 |
种类 | 压力仪表 |
类型 | 进口仪表 |
是否订制 | 否 |
用电量 | 80KVA |
热线 | 18928275313 |
二手溅射镀铌镀硅设备单体间歇式进口真空镀膜机带加热基本介绍
采用 真空容器,产品事先放置在容器中,通过磁控溅射工艺对靶材辉光放电,溅射出来的离子沉积在基材表面上。它与直流溅射的区别在于不会造成靶材中毒,有 的溅射量等优点;中频磁控溅射镀膜法采用 真空10-3以下,在密闭高真空容器里面配合高温。利用PVD物理气相沉积。在表面形成致密金属膜层,表面离子分列均匀,结合气体与靶材的化学分子反应,可结合出化合物膜。使之表面涂层硬度 ,各项性能得到很好提升, 能够得到各种颜色的金属膜层。
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