高纯贵金属磁控溅射镀膜铱靶材 Ir 铱靶铱板铱片基本介绍 
 
 
 
供应科研高纯贵金属磁控溅射镀膜铱靶材(Ir) Iridium 铱靶铱板铱片材料和背板绑定服务
 
 
 
 
 
 
  
 
   
 
    
 
产品名称：
 
 
    
 
铱靶、铂靶、钯靶、银靶、铑靶
 
 
   
 
   
 
    
 
牌号规格：
 
 
    
 
Ir1、Pt1、Pd1、Ag1、Rh1
 
 
   
 
   
 
    
 
用途 ：
 
 
    
 
主要用于磁记录介质、电子半导体、薄膜太阳能及平面显示等领域。
 
 
   
 
  
 
 
 
 
 
 
 
产 品 详 情
 
 
随着靶材在磁记录介质、电子半导体、薄膜太阳能及平面显示等产业的发展，我们加大在稀贵金属靶材研发和制备方面的投入力度，通过原料控制、真空感应熔炼、挤压、轧制、真空热压烧结、热等静压、放电等离子体烧结等不同工艺, 并采用严格的质量控制过程，我们能够制备多种靶材并能一直保持着批量供货。
 
 
另外我们为客户提供铜背板与铱靶材的绑定服务技术（Bonding），由纯铟作为中间的焊接材料使用铜底板与靶材紧密的结合，有利于靶材表面温度的快速散掉，提高靶材的使用率。
 
 
 
 
 
铱溅射靶材Iridium (Ir)
 
 
    规格尺寸：
 
 
 
  
 
   
 
    
 
形状
 
 
    
 
圆形、方形
 
 
   
 
   
 
    
 
尺寸
 
 
    
 
Φ50~170mm
 
 
   
 
   
 
    
 
厚度
 
 
    
 
3~15mm
 
 
   
 
   
 
    
 
纯度
 
 
    
 
≥3N5
 
 
   
 
  
 
 
 
 
注：具体尺寸请联系销售。
 
 
 
 
 
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铱靶材（Ir）Iridium
 
 
 
 
 
一：高纯贵金属磁控溅射镀膜铱靶材（Ir），即铱靶，作为一种高科技材料，以其  的物理和化学性质，在多个行业中展现出无可比拟的应用优势。铱靶材以其高纯度著称，这意味着它几乎不含有任何杂质，从而确保了电流传递的稳定性。这种高纯度特性使得铱靶材在电子束蒸发、溅射镀膜等高科技领域成为不可或缺的关键材料。
 
 
我司深耕靶材领域十年，专注研发与生产，铸就行业精品。所生产单材质靶材如下：
 
 
 
  
 
   
 
    
 
SINGLE ELEMENTS 单材质靶材、电子束蒸发颗粒
 
 
   
 
   
 
    
 
Aluminum (Al)
 
 
    
 
Nickel (Ni)
 
 
   
 
   
 
    
 
Antimony (Sb)
 
 
    
 
Niobium (Nb)
 
 
   
 
   
 
    
 
Arsenic (As)
 
 
    
 
Osmium (Os)
 
 
   
 
   
 
    
 
Barium (Ba)
 
 
    
 
Palladium (Pd)
 
 
   
 
   
 
    
 
Beryllium (Be)
 
 
    
 
Platinum (Pt)
 
 
   
 
   
 
    
 
Boron (B)
 
 
    
 
Rhenium (Re)
 
 
   
 
   
 
    
 
Cadmium (Cd)
 
 
    
 
Rhodium (Rh)
 
 
   
 
   
 
    
 
Carbon (C)
 
 
    
 
Rubidium (Rb)
 
 
   
 
   
 
    
 
Chromium (Cr)
 
 
    
 
Ruthenium (Ru)
 
 
   
 
   
 
    
 
Cobalt (Co)
 
 
    
 
Selenium (Se)
 
 
   
 
   
 
    
 
Copper (Cu)
 
 
    
 
Silicon (Si)
 
 
   
 
   
 
    
 
Gallium (Ga)
 
 
    
 
Silver (Ag)
 
 
   
 
   
 
    
 
Germanium (Ge)
 
 
    
 
Tantalum (Ta)
 
 
   
 
   
 
    
 
Gold (Au)
 
 
    
 
Tellurium (Te)
 
 
   
 
   
 
    
 
Hafnium (Hf)
 
 
    
 
Tin (Sn)
 
 
   
 
   
 
    
 
Indium (In)
 
 
    
 
Titanium (Ti)
 
 
   
 
   
 
    
 
Iridium (Ir)
 
 
    
 
Tungsten (W)
 
 
   
 
   
 
    
 
Iron (Fe)
 
 
    
 
Vanadium (V)
 
 
   
 
   
 
    
 
Lead (Pb)
 
 
    
 
Yttrium (Y)
 
 
   
 
   
 
    
 
Magnesium (Mg)
 
 
    
 
Zinc (Zn)
 
 
   
 
   
 
    
 
Manganese (Mn)
 
 
    
 
Zirconium (Zr)
 
 
   
 
   
 
    
 
Molybdenum (Mo)
 
 
    
 
 
 
 
   
 
  
 
 
 
 
 
 
 
 
  
特性概述：
 
 
 
 
1、在物理性质方面，铱靶材展现出  的熔点，高达2454℃，远超大多数金属。这一特性使得铱靶材在高温环境下仍能保持  的物理和化学稳定性，成为许多极端条件下工作的理想选择。此外，铱靶材的密度达到22.56 g/cm3，具有较高的抗拉强度和硬度，进一步增强了其在各种应用中的稳定性和耐久性。
 
 
2、在导热性能方面，铱靶材同样表现出色。其  的热量传递能力和出色的热稳定性，使得在高温条件下，铱靶材能够保持较低的热阻，确保热量快速而均匀地传递，有效防止了热量的积累和散失。这一特性在电子、航空、核能等领域的应用中尤为关键，为设备的稳定运行提供了有力保障。
 
 
三、行业应用优势：
 
 
铱靶材在行业中的应用优势显著。在科研领域，铱靶材被广泛应用于制作科学仪器、热电偶、电阻线等，其高纯度和稳定的物理性能为科研实验提供了高质量的薄膜材料。在燃料电池和光伏器件领域，铱靶材的  导电性和耐腐蚀性使其成为这些领域的理想材料，有效提升了设备的性能和寿命。此外，铱靶材还广泛应用于高温装置、触点材料等工业领域，其高熔点和耐腐蚀特性使得在极端工作条件下仍能保持稳定的性能。
 
 
总的来说，高纯贵金属磁控溅射镀膜铱靶材以其高纯度、高熔点、优异的导热性能和稳定的化学性质，在多个行业中展现出广泛的应用前景和不可替代的优势。随着科技的不断发展，铱靶材的应用领域还将不断拓展，为更多高科技产品的研发和生产提供有力支持。
 
 
 
 高纯贵金属磁控溅射镀膜铱靶材 Ir 铱靶铱板铱片性能特点 
 

    
 
 
 高纯贵金属磁控溅射镀膜铱靶材 Ir 铱靶铱板铱片技术参数 
 

    
 
 
 高纯贵金属磁控溅射镀膜铱靶材 Ir 铱靶铱板铱片使用说明 
 

    
 
 
 高纯贵金属磁控溅射镀膜铱靶材 Ir 铱靶铱板铱片采购须知