钛靶材
 
纯度：99.7%-99.999%（如2N8，2N6，4N，5N）
 
牌号： TA1，TA2，TA3，TC4(Ti6AL4V)，GR1，GR2，GR3，GR5( Ti6AL4V)    
 
钛圆靶 ：技术条件：符合GB/T2695-1996，ASTMB348-97   
 
钛板靶 ：技术条件：符合GB/T3621-94，ASTM B265-93  
 
用途：用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面涂层、玻璃镀膜工业、薄膜太阳能工业、节能玻璃工业、光学镀膜工业、工具及装饰镀膜工业等。
 
 
 
常规尺寸规格： 
 
圆靶：常用规格：直径60/65/95/100*厚30/32/40/45mm
板靶：(8-25)mm * (150-400) mm * (1000-2500)mm 
钛旋转靶采用真空熔炼工艺，可生产最大长度4000mm，厚度根据客户要求定制。
 
钛平面靶采用真空熔炼工艺，可生产最大长度2500mm，最大宽度400mm，尺寸可根据客户要求加工。
 
 
 
性能标准 
 
化学成分符合 GB/T 3621-2007，GB/T 2965-2007，GB/T 3625-2007 等标准。 
 
标准值 
 
化学成分参考标准 
 
牌号 
 
Al 
 
V 
 
N≤ 
 
C≤ 
 
H≤ 
 
Fe≤ 
 
O≤ 
 
其他元素（单一） 
 
其他元素（总和） 
 
TA1 
 
  
 
  
 
0.03 
 
0.08 
 
0.015 
 
0.20 
 
0.18 
 
0.1 
 
0.40 
 
TA2 
 
  
 
  
 
0.03 
 
0.08 
 
0.015 
 
0.30 
 
0.25 
 
0.1 
 
0.40 
 
TC4 
 
5.5-6.75 
 
3.5-4.5 
 
0.05 
 
0.08 
 
0.015 
 
0.30 
 
0.20 
 
0.1 
 
0.40 
 
 
 
机械性能参考标准 
 
牌号 
 
室温下力学性能，不小于 
 
抗拉强度 
 
屈服强度 
 
伸长率 
 
断面收缩率 
 
TA1 
 
240 MPa 
 
170MPa 
 
25% 
 
30% 
 
TA2 
 
345MPa 
 
275 MPa 
 
20% 
 
30% 
 
TC4 
 
895MPa 
 
825 MPa 
 
10% 
 
20% 
 
 
 
其它靶材：
 
产品名称
 
化学符号
 
含量
 
性质
 
钛溅射靶材
 
Ti 
 
2N6,4N,5N 
 
平面靶材，旋转靶材
 
镍溅射靶材
 
Ni 
 
2N5, 3N 
 
平面靶材，旋转靶材
 
锆溅射靶材
 
Zr 
 
2N5 
 
平面靶材，旋转靶材
 
钨溅射靶材
 
W 
 
3N5 
 
平面靶材，旋转靶材
 
钼溅射靶材
 
Mo 
 
3N5 
 
平面靶材，旋转靶材
 
钽溅射靶材
 
Ta 
 
3N5, 4N 
 
平面靶材，旋转靶材
 
铌溅射靶材
 
Nb 
 
3N5, 4N 
 
平面靶材，旋转靶材
 
铜溅射靶材
 
Cu 
 
3N8 
 
平面靶材，旋转靶材
 
铝溅射靶材
 
Al 
 
4N 
 
平面靶材，旋转靶材
 
钛铝合金溅射靶材
 
Ti + Al 
 
2N7 
 
平面靶材，旋转靶材
 
钼铌合金溅射靶材
 
Mo+Nb 
 
3N5 
 
平面靶材，旋转靶材
 
钨钼合金溅射靶材
 
W+Mo 
 
3N5 
 
平面靶材，旋转靶材
 
铌钨合金溅射靶材
 
Nb521 
 
3N5 
 
平面靶材，旋转靶材
 
铌钛合金溅射靶材
 
Nb+Ti 
 
2N5 
 
平面靶材，旋转靶材
 
铌锆合金溅射靶材
 
Nb+Ti 
 
2N5 
 
平面靶材，旋转靶材