集成电路用氮化铝散热基板、LED用氮化铝基板
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长沙市啟睿新材料有限公司

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溅射靶材,蒸发镀膜材料,半导体材料,太阳能光伏材料,金属粉末,氧化物粉末,各种金属制品,镀膜基片,坩埚,陶瓷材料
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特性 高导热、高绝缘、低热膨胀系数、电性能
功能 其它
微观结构 单晶
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氮化铝陶瓷基板、基片

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氮化铝陶瓷基片

氮化铝(AlN)是共价键化合物,原子晶体,属类金刚石氮化物、六方晶系,纤锌矿型的晶体结构, ,呈白色或灰白色,理论密度3.26g/cm3

氮化铝材料具有如下特性:

(1)高热导率 (理论值约320W/m·K)
(2)高绝缘性;
(3)低热膨胀系数(4.5×10-6)Si(3.5~4×10-6)GaAs(6×10-6)匹配;
(4)电性能 (介电常数、介质损耗、体电阻率、介电强度)
(5)机械性能好;
(6)耐腐蚀性好;
(7)光传输特性好;

 

 氮化铝陶瓷已成为新一代大规模集成电路、半导体模块及大功率器件的理想的散热和封装材料,大量应用于HBLED、UVLED封装、大功率集成电路、功率模块、RF射频/微波通讯、汽车电子、微电子半导体、影像传输等领域。

氮化铝陶瓷材料具有 的热传导性、可靠的电绝缘性、低的介电常数和介电损耗,可用于制造高导热无磁骨架材料、电子基片、微波介电材料、耐高温、绝缘及耐腐蚀结构陶瓷材料制品。氮化铝陶瓷还可用作熔炼有色金属和半导体材料砷化镓的坩埚、蒸发舟、高温绝缘件、微波介电材料、耐高温及耐腐蚀结构陶瓷及透明氮化铝微波陶瓷制品等。

氮化铝aln陶瓷材料,氮化铝陶瓷电路板120256492

氮化铝陶瓷技术性能参数表一 

 

分类

项目

单位

指标值

AN170

AN200

AN220

基本性能

颜色

灰色

灰色

米色

吸水率

%

0

0

0

体积密度

g/cm3

3.30

3.30

3.23

表面粗糙度

?m

0.1~0.6

0.1~0.6

0.1~0.6

翘曲率

≤2

≤2

≤2

热学性能

热导率(20

W/m.k

≥170

≥200

≥220

热膨胀系数

20℃~300℃

×10-6/

4.6

4.6

4.6

40℃~800℃

×10-6/

5.2

5.2

5.2

力学性能

抗弯强度

Mpa

≥450

≥300

≥200

弹性模量

Gpa

320

310

310

莫氏硬度

8

8

8

电学性能

抗电强度

KV/mm

≥17

≥16

≥15

体积电阻率

Ω

≥1014

≥1014

≥1013

介电常数

9

8.6

8.5

介电损耗

×10-4

2.98

2

2

 

 集成电路氮化铝散热基板、LED氮化铝基板120265532

氮化铝陶瓷技术性能参数表二
 

性能内容

性能指标

体积密度

3.3 g/cm3

吸水率

0%

热导率(20

≥170W/m·k

线膨胀系数(RT-400

4.4×10-6/

抗弯强度(Mpa

≥330

体积电阻率

≥1014Ω·cm

介电常数(1MHz

9.0

介质损耗

3×10-4

抗电强度

≥15KV/mm

表面粗糙度Ra

0.3~0.5?m(≤20nm)

翘曲度(~/25.4(长度))

0.03~0.05

外观

致密、细晶

 集成电路氮化铝散热基板、LED氮化铝基板120265492

集成电路氮化铝散热基板、LED氮化铝基板120265482

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