二氧化硅混合机，二氧化硅混合设备，二氧化硅分散设备，粉液混合机，气相二氧化硅分散难点，IKN分散设备，分散设备工作原理二氧化硅的用途很广。自然界里比较  的水晶可用以电子工业电子的重要部件、光学仪器和工艺品。气相法二氧化硅是极其重要的高科技超微细无机新材料之一，由于其粒径很小，因此比表面积大，表面吸附力强，表面能大，化学纯度高、分散性能好、热阻、电阻等方面具有特异的性能，以其  的稳定性、补强性、增稠性和触变性，在众多学科及领域内  特性，有着不可取代的作用。气相二氧化硅质量小,很轻,极易飞扬,广泛应用于化妆品和  行业。通常用作补强剂,稳定剂或粘度调节剂。（价格电议，包先生，18018542795，QQ：1530975733）二氧化硅的分散难点二氧化硅加工的难点在于湿化并达到相应的粘度。而且和水（溶剂）混合后容易团聚，IKN在这个行业拥有丰富的经验,能够满足不同客户的要求。IKN混合设备在二氧化硅的分散中的优势①消除粉尘。IKN为气相二氧化硅与水的混合,设计多种解决方案。粉体直接从包装袋中吸入,或者可以跟您的工程师一起特殊定制工艺。②改善容器清洁问题。使用IKN在线粉体液体混合系统,能够消除容器壁的物料残留,改善清洁,并减少原材料浪费。③最大化成分功能。很多公司在湿化二氧化硅工艺上都遇到困难,通常需要足够的剪切力来达到材料活性和特定粘度,只有IKN可以提供这种类型的剪切分散机,为气相二氧化硅湿化混合提供足够的剪切力。二氧化硅混合机，二氧化硅混合设备，二氧化硅分散设备，粉液混合机，气相二氧化硅分散难点，IKN分散设备，分散设备工作原理IKN混合设备粉液混合机的概述面对粉末难易团聚，难以分散，粉尘飞扬的粉体处理工艺中 常见的问题，IKN依肯研发了PLD2000系列产品，专门用于解决粉液在线混合分散的问题。PLD2000设备的特殊结构和工作原理：装备了一个特别设计的转子，一个入口进液体，一个入口进粉体，使两相在瞬间接触时就能及时的将粉体打散。机器可以循环操作直到所有粉末加入完毕，然后密封加料入口，在腔体中继续分散混合。根据产品要求，粉末的性状，  添加量可达80%。另外，如果粘度过高，也可在入口前加一台泵。二氧化硅混合机，二氧化硅混合设备，二氧化硅分散设备，粉液混合机，气相二氧化硅分散难点，IKN分散设备，分散设备工作原理