TF1200-CVD
 
产品用途：主要用于稀土制备、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等行业进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、CVD实验、物质成分测量等场合。
 
技术参数：
 
 
 
 
  
 
   
 
产品型号
 
 
   
 
TF1200-CVD
 
 
  
 
  
 
   
 
炉管尺寸
 
 
   
 
60*1000mm
 
 
  
 
  
 
   
 
额定电压
 
 
   
 
AC220V  50/60Hz
 
 
  
 
  
 
   
 
设备总功率
 
 
   
 
7kw
 
 
  
 
  
 
   
 
炉体结构
 
 
   
 
双层壳体结构，配有风冷系统，可使炉体表面快速降温
 
 
  
 
  
 
   
 
温控仪表
 
 
   
 
具有PID调节、自整定功能，30段升降温程序
 
 
  
 
  
 
   
 
工作温度
 
 
   
 
最高温度1200℃，连续工作温度≤1100℃；控温精度±1℃
 
 
  
 
  
 
   
 
升温速度
 
 
   
 
  ≤10℃/min， 快升温速度30℃/min
 
 
  
 
  
 
   
 
加热元件
 
 
   
 
硅钼棒
 
 
  
 
  
 
   
 
炉膛材质
 
 
   
 
氧化铝多晶体纤维  
 
 
  
 
  
 
   
 
炉管材质
 
 
   
 
刚玉管
 
 
  
 
  
 
   
 
测温元件
 
 
   
 
B型热电偶
 
 
  
 
  
 
   
 
工作正压
 
 
   
 
0.02mpa
 
 
  
 
  
 
   
 
加热区/恒温区
 
 
   
 
300mm/150mm
 
 
  
 
  
 
   
 
供气系统
 
 
   
 
4路质量供气，量程：0-500ml/min
 
 
  
 
  
 
   
 
准确度:±1.5%；重复精度：±0.2%
 
 
  
 
  
 
   
 
响应时间：气特性：1～4 Sec，电特性：10 Sec
 
 
  
 
  
 
   
 
真空系统
 
 
   
 
极限真空度：1.33*10E-4Pa；抽气速率：600L/S
 
 
  
 
  
 
   
 
复合真空计：ZDF-5227
 
 
  
 
  
 
   
 
电阻规：KF25，ZJ-52；电离规：KF25，ZJ-27
 
 
  
 
  
 
   
 
操作  
 
 
   
 
开门断电、超温报警、漏电保护功能
 
 
  
 
  
 
   
 
质量保证
 
 
   
 
质保期1年，相关耗材除外，如加热元件易耗材等
 
 
  
 
  
 
   
 
标准配置
 
 
   
 
防护手套1双；坩埚钳1把；坩埚舟1只；刚玉管1根；炉塞4个；炉勾1把；6号内六角（法兰专用）1个；水冷法兰2个；高压气管1套；高温密封圈8个；产品说明书1份；仪表说明书1份；保修证书1份。