磁控溅射镀膜设备运用了磁场力的原理，在真空室阳离子与靶材碰撞溅射出靶离子，并沿着磁力线的方向飞射在基材产品上，使之形成金属薄膜层。可以镀膜各种金属。对基材表面要求光滑，镀层结合力好，金属质感强等特点。