400毫米到2000毫米柔性基片穿越多个沉积区呈现在一个精密温度控制鼓。温度均匀性在大面积柔性基板实现  专有鼓技术提供+/1度温度控制。单或双侧碰的柔性基板提供了全面的网络宽度以及可选的插页提供衬底和薄膜层保护整个制造过程。风和放松室被孤立在沉积面积允许快速辊变化没有暴露的过程域到大气中。“猎户座”系列达到正常运行时间,实现完整的辊变化在不到3个小时。几个配置可供优化数量的沉积区和沉积源到一个特定的过程。90英寸的精密温度控制滚筒直径●+/-1%或1度温度控制在滚筒表面面积●-100摄氏度到+300摄氏度温度配置●网络速度选项1-5米/分钟(+/-X%的速度精度)1.0-15米/分钟(+/-X%的速度精度)10-50米/分钟(+/-X%的速度精度)注入沉积区域差异提供2来源区每●X沉积区为正面涂料总计高达X源位置●X沉积区为背面涂层总计高达X源位置沉积选项●可旋转的或平面磁控管溅射阴极●标准功率配置-RF、脉冲直流,直流、交流和HIPIMS●每个沉积位置也可以配置为下面的沉积来源●PECVD方法,离子源,XXXXX设施需求●近似系统尺寸,长度,宽度和间隙区域●专用冷冻水系统●电力需求依赖于源配置●多个专用的地面接地连接●洁净室的兼容性●网络连接或专用电话线路