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商标 | 擎轩科技 |
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型号 | Qx-mir-gl |
规格 | 12.5 mm X 25.0 mm X |
包装 | 硬塑 |
型号 | Qx-mir-gl |
规格 | 12.5 mm X 25.0 mm X |
商标 | 擎轩科技 |
包装 | 硬塑 |
设计波长 | 3.1 |
刻线数 | 800 |
刻线衍射光栅,MIR反射式基本介绍QXKJ提供多种优化中红外区域峰值偏振效率的刻划衍射光栅。我们提供不同闪耀角的光栅,适合多种应用。欲了解不同光栅类型的差异,刻线衍射光栅,MIR反射式性能特点特性
· 设计波长:3.1 µm、3.5 µm、10.6 µm
· 设计波长处的偏振效率:80%到95%
· 低重影:小于主反射的0.5%
· 反射铝膜
· Pyrex基底,75到450刻线/mm
· 使用刻线的基底材料生产
· 损伤阈值:
o 连续波激光:250 W/cm2
o 脉冲激光器:3.5 J/cm2 (200 ns脉冲)
刻线衍射光栅,MIR反射式技术参数反射式衍射光栅,设计波长3.1 µm
Dimensions (W x H x D)
Design
Wavelength
Grooves/mm
Blaze Angle
Dispersion
12.5 mm x 25.0 mm x 9.5 mm
3.1 µm
450
32°
1.6 nm/mrad
25.0 mm x 50.0 mm x 9.5 mm
反射式衍射光栅,设计波长3.5 µm
Dimensions (W x H x D)
Design
Wavelength
Grooves/mm
Blaze Angle
Dispersion
12.5 mm x 25.0 mm x 9.5 mm
3.5 µm
300
26.5°
2.86 nm/mrad
25.0 mm x 50.0 mm x 9.5 mm
反射式衍射光栅,设计波长10.6 µm
Dimensions (W x H x D)
Design
Wavelength
Grooves/mm
Blaze Angle
Dispersion
12.5 mm x 25.0 mm x 9.5 mm
10.6 µm
75
21°
12.3 nm/mrad
25.0 mm x 50.0 mm x 9.5 mm
12.5 mm x 25.0 mm x 9.5 mm
100
27°
8.5 nm/mrad
25.0 mm x 50.0 mm x 9.5 mm
12.5 mm x 25.0 mm x 9.5 mm
150
35°
4.2 nm/mrad
25.0 mm x 50.0 mm x 9.5 mm
刻线衍射光栅,MIR反射式使用说明注意
光栅很容易被潮湿、指纹、气溶胶或任意摩擦材料的轻微接触而损伤。光栅只能在必要时才拿取,而且只能通过边缘夹持。应佩戴橡胶手套或类似的防护套,以防止手指上的油污接触光栅表面。清洁时只能使用净化的干燥空气或氮气吹扫光栅,其它任何操作都是不允许的。溶剂很可能会损伤光栅表面。
刻线衍射光栅,MIR反射式采购须知这些光栅用于在常见分子激光波长下获得峰值偏振效率,因此与标准的刻划衍射光栅(紫外、可见和近红外刻划光栅)不同。对于这些光栅,凹槽闪耀角不等同于Littrow配置角,后者优化了光栅效率,用于非偏振光。因此,Littrow配置的反射光栅的标准公式也不再适用。
请注意,这些光栅的反射铝膜是 的,而且没有保护镀膜。但是可以定制MgF2或金膜来保护光栅的铝膜表面。金膜在红外波段的性能 ,而MgF2膜提供 保护性;详情请咨询技术支持。
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