实验室大功率磁控溅射仪基本介绍 
 

  大功率溅射仪，桌面式设计，触摸屏控制，石英＋不锈钢腔体，溅射距离可调，自动电动挡板可保护样品和清洗靶材。 
 
 
 实验室大功率磁控溅射仪性能特点 
 

  离子镀膜技术是PVD技术的一种，是指在PVD沉积过程中，被镀材料形成金属或者非金属等离子体（如Ti离子，N离子），等离子体在偏压电场的作用下，沉积在工件表面上。 
 
 
 实验室大功率磁控溅射仪技术参数 
 

  由于离子镀过程中，离子的能量强，离子绕射性好，膜层的结合力好，膜层致密性也好，膜层性能好。 
 

  KT-Z1650CVD是一款小型台式加热功率可控蒸发镀膜仪，仪器虽小功能齐全，配备有电压 电流反馈,样品台旋转，样品高度调节，及电动挡板功能。通过定时调节预热功率及蒸发功率，可对大部分金属进行均匀蒸发沉积，真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染，样品台可旋转以获得均匀的薄膜，可制备各种金属薄膜和有机物薄膜 
 
 
 实验室大功率磁控溅射仪使用说明 
 

  离子镀膜技术的应用非常广泛，常见的有：装饰性镀膜，工具模具硬质镀膜以及各种功能膜层。 
 
 
 实验室大功率磁控溅射仪采购须知