Fe2O3氧化铁靶 高纯Fe铁靶 PVD真空镀膜靶基本介绍 
 
 
 
Iron+（Fe）靶材真空镀膜行业高纯度溅射靶材
 
 
 
 
 
一、Iron+（Fe）铁靶材，作为由高纯铁金属精心制成的金属固体靶材，在材料科学、电子工程及信息技术等多个领域扮演着至关重要的角色。其纯度、适中的密度以及高熔点等特性，使得Fe靶材在制备磁记录介质、磁记录磁头、光电器件和磁传感器等元器件方面展现出显著的优势
 
 
我司专注研发与生产，铸就行业精品。公司生产单材质靶材、电子束蒸发颗粒材料如下：
 
 
 
  
 
   
 
    
 
SINGLE ELEMENTS 单材质靶材、电子束蒸发颗粒
 
 
   
 
   
 
    
 
Aluminum (Al)
 
 
    
 
Nickel (Ni)
 
 
   
 
   
 
    
 
Antimony (Sb)
 
 
    
 
Niobium (Nb)
 
 
   
 
   
 
    
 
Arsenic (As)
 
 
    
 
Osmium (Os)
 
 
   
 
   
 
    
 
Barium (Ba)
 
 
    
 
Palladium (Pd)
 
 
   
 
   
 
    
 
Beryllium (Be)
 
 
    
 
Platinum (Pt)
 
 
   
 
   
 
    
 
Boron (B)
 
 
    
 
Rhenium (Re)
 
 
   
 
   
 
    
 
Cadmium (Cd)
 
 
    
 
Rhodium (Rh)
 
 
   
 
   
 
    
 
Carbon (C)
 
 
    
 
Rubidium (Rb)
 
 
   
 
   
 
    
 
Chromium (Cr)
 
 
    
 
Ruthenium (Ru)
 
 
   
 
   
 
    
 
Cobalt (Co)
 
 
    
 
Selenium (Se)
 
 
   
 
   
 
    
 
Copper (Cu)
 
 
    
 
Silicon (Si)
 
 
   
 
   
 
    
 
Gallium (Ga)
 
 
    
 
Silver (Ag)
 
 
   
 
   
 
    
 
Germanium (Ge)
 
 
    
 
Tantalum (Ta)
 
 
   
 
   
 
    
 
Gold (Au)
 
 
    
 
Tellurium (Te)
 
 
   
 
   
 
    
 
Hafnium (Hf)
 
 
    
 
Tin (Sn)
 
 
   
 
   
 
    
 
Indium (In)
 
 
    
 
Titanium (Ti)
 
 
   
 
   
 
    
 
Iridium (Ir)
 
 
    
 
Tungsten (W)
 
 
   
 
   
 
    
 
Iron (Fe)
 
 
    
 
Vanadium (V)
 
 
   
 
   
 
    
 
Lead (Pb)
 
 
    
 
Yttrium (Y)
 
 
   
 
   
 
    
 
Magnesium (Mg)
 
 
    
 
Zinc (Zn)
 
 
   
 
   
 
    
 
Manganese (Mn)
 
 
    
 
Zirconium (Zr)
 
 
   
 
   
 
    
 
Molybdenum (Mo)
 
 
    
 
 
 
 
   
 
  
 
 
 
 
 
 
 
二、材料特性
 
 
纯度：Fe靶材的纯度是确保其性能的基础。通过真空感应熔炼、化学分析及精密加工等工艺，可以制备出纯度高达99.95%甚至99.99%的Fe靶材。高纯度意味着材料中的杂质含量极低，从而减少了因杂质引起的性能波动和缺陷，保证了元器件的稳定性和可靠性。这种高纯度特性对于磁记录介质和磁头的性能尤为关键，因为任何微小的杂质都可能影响磁场的均匀性和稳定性，进而影响数据的读写精度和速度。
 
 
密度：Fe靶材的密度约为7.86g/cm3，这一适中的密度使得它在加工和使用过程中具有良好的稳定性和可加工性。适中的密度不仅有助于保持靶材的完整性，还使得在镀膜过程中能够形成均匀、致密的薄膜层。这对于提高磁记录介质的记录密度和磁头的读写效率至关重要。
 
 
熔点：Fe靶材的熔点高达1535°C，这一高熔点特性使得它在高温环境下仍能保持稳定的物理和化学性质。在镀膜过程中，Fe靶材需要在真空或惰性气体保护下进行加热蒸发，高熔点确保了靶材在蒸发过程中不易熔化变形，从而保证了镀膜的质量和稳定性。此外，高熔点还使得Fe靶材在制备过程中能够承受高的温度和压力，有利于获得致密和均匀的薄膜结构。
 
 
三、行业应用优势
 
 
磁记录介质：Fe靶材是制备磁记录介质的重要材料之一。通过磁控溅射等镀膜技术，可以将Fe靶材均匀地沉积在基材表面，形成具有优异磁性能的薄膜层。这些薄膜层作为磁记录介质的核心部分，能够稳定地存储和读取数据，广泛应用于硬盘、磁带等存储设备中。Fe靶材的高纯度和均匀性保证了磁记录介质的高密度、高稳定性和长寿命。
 
 
磁记录磁头：磁记录磁头是读写磁记录介质的关键部件，其性能直接影响数据的读写速度和精度。Fe靶材因其优异的磁性能和加工性能，成为制备磁记录磁头的重要材料之一。通过精密加工和镀膜技术，可以将Fe靶材制成具有特定形状和性能的磁头部件，如磁芯、磁阻元件等。这些部件在磁记录过程中能够产生稳定且强大的磁场，确保数据的准确读写。
 
 
光电器件：除了磁记录领域外，Fe靶材还在光电器件中发挥着重要作用。例如，在太阳能电池等光电器件的制备过程中，Fe靶材可以作为电极材料或反射层材料使用。其高纯度和良好的导电性能有助于提高太阳能电池的光电转换效率和使用寿命。
 
 
磁传感器：磁传感器是一种能够感知磁场变化并将其转换为电信号的装置。Fe靶材因其优异的磁性能和稳定性，成为制备磁传感器的重要材料之一。通过特定的工艺处理，可以将Fe靶材制成具有敏感磁性的薄膜层或颗粒状材料，用于制备各种类型的磁传感器。这些传感器在工业自动化、汽车电子、航空  等领域具有广泛的应用前景。
 
 
综上所述，Iron+（Fe）靶材以其的纯度、适中的密度和高熔点等特性，在磁记录介质、磁记录磁头、光电器件和磁传感器等元器件的制备中展现出显著的优势。随着科技的不断进步和应用的不断拓展，Fe靶材必将在领域发挥其重要作用，为人类社会的发展贡献的力量。
 
 
 
 Fe2O3氧化铁靶 高纯Fe铁靶 PVD真空镀膜靶性能特点 
 
 
 
Iron Oxide (Fe2O3)氧化铁 靶材真空镀膜行业高纯度溅射靶材
 
 
 
 
 
一、Fe2O3氧化铁靶材，作为一种富含  物理化学性质的关键材料，其在现代工业体系中的地位日益凸显，特别是在半导体技术、精密冶金、化工能源等高科技领域展现出了广泛的应用潜力和不可替代的价值。其材料特性与多元化的应用优势，共同构筑了其在全球材料市场中的重要地位。
 
 
我司专注研发与生产，铸就行业精品。公司生产氧化物靶材材料如下：
 
 
 
  
 
   
 
    
 
OXIDES 氧化物
 
 
   
 
   
 
    
 
Aluminum Oxide (Al2O3)
 
 
    
 
Magnesium Oxide (MgO)
 
 
   
 
   
 
    
 
Antimony Oxide (Sb2O3)
 
 
    
 
Zirconium-Magnesium Oxide(ZrMgO3)
 
 
   
 
   
 
    
 
Barium Titanate (BaTiO3)
 
 
    
 
Magnesium-Zirconium Oxide (MgZrO3)
 
 
   
 
   
 
    
 
Bismuth Oxide (Bi2O3)
 
 
    
 
Molybdenum Oxide (MoO3)
 
 
   
 
   
 
    
 
Bismuth Titanate (Bi2Ti4O11)
 
 
    
 
Nickel-Chrome Oxide (CrNiO4)
 
 
   
 
   
 
    
 
Cerium Oxide (CeO2)
 
 
    
 
Nickel-Cobalt Oxide（NiCoO2）
 
 
   
 
   
 
    
 
Cobalt-Chrome Oxide (CoCr2O4)
 
 
    
 
Niobium Pentoxide (Nb2O5)
 
 
   
 
   
 
    
 
Chromium Oxide (Cr2O3)
 
 
    
 
Rare Earth Garnets A3B2(SiO4)3
 
 
   
 
   
 
    
 
Chromium Oxide (Eu doped)
 
 
    
 
Rare Earth Oxides (La2O3)
 
 
   
 
   
 
    
 
Gallium Oxide (Ga2O3)
 
 
    
 
Silicon Dioxide (SiO2)
 
 
   
 
   
 
    
 
Germanium Oxide (GeO3)
 
 
    
 
Silicon Monoxide (SiO)
 
 
   
 
   
 
    
 
Hafnium Oxide (HfO2)
 
 
    
 
Tantalum Pentoxide (Ta2O5)
 
 
   
 
   
 
    
 
Indium Oxide (In2O3)
 
 
    
 
Tin Oxide (SnO2)
 
 
   
 
   
 
    
 
Indium-Tin Oxide (ITO)
 
 
    
 
Titanium Dioxide (TiO2)
 
 
   
 
   
 
    
 
Iron Oxide (Fe2O3)
 
 
    
 
Tungsten Oxide (WO3)
 
 
   
 
   
 
    
 
Lanthanum Oxide(La2O3)
 
 
    
 
Yttrium Oxide (Y2O3)
 
 
   
 
   
 
    
 
Lead Titanate(PbTiO3)
 
 
    
 
Yttrium-Aluminum Oxide (Y3Al5O12)
 
 
   
 
   
 
    
 
Lead Zirconate (ZrPbO3)
 
 
    
 
Zinc Oxide (ZnO)
 
 
   
 
   
 
    
 
Lithium Niobate (LiNbO3)
 
 
    
 
Zinc Oxide/Aluminum Oxide (Al2O3)
 
 
   
 
   
 
    
 
Lithium-Cobalt Oxide (CoLiO2)
 
 
    
 
Zirconium Oxide (ZrO2)
 
 
   
 
   
 
    
 
Lutetium-Iron Oxide (garnet) (Fe2LuO4)
 
 
    
 
 
 
 
   
 
  
 
 
 
 
 
 
 
二、材料特性
 
 
1、主要成分与性质？：Fe2O3氧化铁靶材主要成分为三氧化二铁，是一种无机物，化学式为Fe2O3，呈红色或深红色无定形粉末。其相对密度为5~5.25，不溶于水，但溶于  和  ，微溶于  。
 
 
 
 
 
2、首先，Fe2O3氧化铁靶材以其高纯度著称，这是保证其在各领域应用中性能稳定与效果优异的基础。高纯度的Fe2O3不仅能够减少杂质对工艺过程的干扰，提升产品质量，还能在特定应用中，如半导体器件制造中，有效降低漏电流，提高器件的可靠性和使用寿命。此外，其相对密度适中，介于5至5.25之间，这一特性使得靶材在加工和使用过程中既能保持足够的结构强度，又便于进行精密的机械加工和靶材制备，满足了不同工业领域对材料密度特性的多样化需求。
 
 
3、熔点高达1565℃（同时伴随分解）的特性，则赋予了Fe2O3氧化铁靶材在高温环境下的稳定性和耐久性。这一特点在冶金领域的磁控溅射真空镀膜技术中尤为重要，能够在高真空、高温的极端条件下稳定工作，确保镀膜层的质量与均匀性，为提升金属表面性能、增加耐磨耐腐蚀性等提供了有力支撑。
 
 
三、行业应用优势
 
 
1、Fe2O3氧化铁靶材因其良好的物理化学特性，在半导体、冶金、化工能源等多个领域有广泛应用。例如，在半导体行业中，它可以用作栅介质；在冶金领域，它可以用作磁控溅射真空镀膜的靶材。
 
 
2、在半导体行业，Fe2O3氧化铁靶材的应用尤为引人注目。作为栅介质材料，它能够有效地隔离栅极与沟道区域，减少漏电流，提高器件的开关速度和工作效率。同时，其稳定的化学性质和良好的热稳定性，使得半导体器件在高温、高湿等恶劣环境下仍能保持稳定的性能，为集成电路的可靠性提供了重要保障。
 
 
冶金领域则是Fe2O3氧化铁靶材的另  应用舞台。作为磁控溅射真空镀膜的靶材，它能够以高能离子束的形式  地将Fe2O3沉积到金属或合金表面，形成一层致密、均匀且具有特殊功能的薄膜。这种薄膜不仅能够改善基材的表面性能，如提高硬度、耐磨性、耐腐蚀性等，还能赋予基材新的物理或化学特性，如磁性、光学性能等，从而拓宽了金属材料的应用范围和市场价值。
 
 
3、此外，在化工能源领域，Fe2O3氧化铁靶材也展现出了广阔的应用前景。其  的催化性能，使得它在催化剂制备、气体净化、能源转换等方面具有潜在的应用价值。特别是在新能源领域，如太阳能电池、燃料电池等方向，Fe2O3作为光阳极材料或催化剂载体，能够促进光电转换效率的提升，为清洁能源的开发和利用贡献力量。
 
 
综上所述，Fe2O3氧化铁靶材以其材料特性和广泛的应用优势，在多个高科技领域发挥着举足轻重的作用。随着科技的不断进步和工业的持续发展，Fe2O3氧化铁靶材的市场需求将持续增长，其重要性也将日益凸显。未来，随着制备技术的不断创新和应用领域的不断拓展，Fe2O3氧化铁靶材必将在更多领域展现其  的魅力和价值。
 
 
 
 Fe2O3氧化铁靶 高纯Fe铁靶 PVD真空镀膜靶技术参数 
 

    
 
 
 Fe2O3氧化铁靶 高纯Fe铁靶 PVD真空镀膜靶使用说明 
 

    
 
 
 Fe2O3氧化铁靶 高纯Fe铁靶 PVD真空镀膜靶采购须知