高纯镍靶材Ni 真空镀膜靶材 镍钒合金NiV靶基本介绍 
 
 
 
Nickel (Ni)，镍靶材是真空镀膜行业中高纯度溅射靶材
 
 
 
 
 
一、Nickel (Ni)，即镍，是一种银白色的金属元素，因其  的物理和化学性质，在靶材材料领域有着广泛的应用。镍靶材以其高纯度、高密度以及相对较高的熔点等特性，在众多高科技和工业领域展现出的应用优势。我司专注研发与生产，铸就行业精品。公司生产单材质靶材、电子束蒸发颗粒材料如下：
 
 
 
  
 
   
 
    
 
SINGLE ELEMENTS 单材质靶材、电子束蒸发颗粒
 
 
   
 
   
 
    
 
Aluminum (Al)
 
 
    
 
Nickel (Ni)
 
 
   
 
   
 
    
 
Antimony (Sb)
 
 
    
 
Niobium (Nb)
 
 
   
 
   
 
    
 
Arsenic (As)
 
 
    
 
Osmium (Os)
 
 
   
 
   
 
    
 
Barium (Ba)
 
 
    
 
Palladium (Pd)
 
 
   
 
   
 
    
 
Beryllium (Be)
 
 
    
 
Platinum (Pt)
 
 
   
 
   
 
    
 
Boron (B)
 
 
    
 
Rhenium (Re)
 
 
   
 
   
 
    
 
Cadmium (Cd)
 
 
    
 
Rhodium (Rh)
 
 
   
 
   
 
    
 
Carbon (C)
 
 
    
 
Rubidium (Rb)
 
 
   
 
   
 
    
 
Chromium (Cr)
 
 
    
 
Ruthenium (Ru)
 
 
   
 
   
 
    
 
Cobalt (Co)
 
 
    
 
Selenium (Se)
 
 
   
 
   
 
    
 
Copper (Cu)
 
 
    
 
Silicon (Si)
 
 
   
 
   
 
    
 
Gallium (Ga)
 
 
    
 
Silver (Ag)
 
 
   
 
   
 
    
 
Germanium (Ge)
 
 
    
 
Tantalum (Ta)
 
 
   
 
   
 
    
 
Gold (Au)
 
 
    
 
Tellurium (Te)
 
 
   
 
   
 
    
 
Hafnium (Hf)
 
 
    
 
Tin (Sn)
 
 
   
 
   
 
    
 
Indium (In)
 
 
    
 
Titanium (Ti)
 
 
   
 
   
 
    
 
Iridium (Ir)
 
 
    
 
Tungsten (W)
 
 
   
 
   
 
    
 
Iron (Fe)
 
 
    
 
Vanadium (V)
 
 
   
 
   
 
    
 
Lead (Pb)
 
 
    
 
Yttrium (Y)
 
 
   
 
   
 
    
 
Magnesium (Mg)
 
 
    
 
Zinc (Zn)
 
 
   
 
   
 
    
 
Manganese (Mn)
 
 
    
 
Zirconium (Zr)
 
 
   
 
   
 
    
 
Molybdenum (Mo)
 
 
    
 
 
 
 
   
 
  
 
 
 
 
 
 
 
二、材料特性：
 
 
首先，镍靶材的高纯度是其亮点。在靶材制备过程中，通过工艺手段，如电解沉积、溅射沉积等，可以制备出纯度高达99.999%甚至以上的镍靶材。高纯度的镍靶材在溅射镀膜过程中能够提供稳定、纯净的镍原子流，确保在基底上形成高质量、高一致性的薄膜。这种高纯度的镍靶材在半导体制造、集成电路制作等领域尤为重要，因为任何微小的杂质都可能影响最终产品的性能和稳定性。高纯度的镍靶材还能够减少薄膜中的缺陷和杂质，提高薄膜的电导性、热导性和机械性能，为后续的加工和应用提供坚实的基础。
 
 
其次，镍靶材的高密度也是其重要的物理特性之一。镍的密度约为8.908g/cm3，这使得镍靶材在溅射过程中能够提供稳定的溅射速率和均匀的薄膜厚度。高密度还意味着镍靶材在溅射过程中能够  地承受高能的离子轰击，减少靶材的磨损和剥落，从而延长靶材的使用寿命。这一特性对于需要长时间稳定运行的溅射设备尤为重要，因为更换靶材不仅耗时费力，还会影响生产效率和产品质量。
 
 
镍的熔点相对较高，约为1453°C，这一特性使得镍靶材在高温环境下仍能保持其物理和化学性质的稳定性。在溅射镀膜过程中，靶材会吸收大量的能量并转化为热量，而镍靶材的  热传导性能可以有效地将这些热量传递出去，防止靶材过热，从而保证了薄膜制备过程的稳定进行。此外，高温稳定性还意味着镍靶材在溅射过程中不会因为高温而产生不必要的化学反应，从而保证了薄膜的纯度和性能。
 
 
三、行业应用：
 
 
在行业中，镍靶材的应用优势主要体现在以下几个方面。首先，在半导体和集成电路制造领域，镍靶材因其高纯度和良好的电导性能而被广泛应用于制作高质量的导电层。这些导电层在芯片内部起着连接和传输信号的重要作用，其质量和稳定性直接关系到芯片的性能和可靠性。
 
 
其次，在磁性材料制备领域，镍靶材因其  的铁磁性质而被广泛应用于硬盘驱动器、磁性存储设备等产品的制造中。镍靶材的高磁性和稳定性使得这些产品具有存储密度和读写速度，从而提高了数据的传输效率和安全性。
 
 
此外，镍靶材还被广泛应用于薄膜太阳能电池、光电存储器、平板显示器等电子产品的制造中。在这些领域，镍靶材的高耐腐蚀性和高精度的溅射成膜技术使得这些产品具有好的耐用性和稳定性，从而提高了产品的使用寿命和用户体验。
 
 
综上所述，镍靶材以其高纯度、高密度以及相对较高的熔点等特性，在半导体制造、磁性材料制备、电子产品制造等多个领域展现出应用优势。随着科技的进步和市场的需求变化，镍靶材的制备技术和应用领域也将不断拓展和完善，为多高科技产品的开发和生产提供材料支持。
 
 
 
 高纯镍靶材Ni 真空镀膜靶材 镍钒合金NiV靶性能特点 
 
 
 
Nickel-Vanadium（NiV）镍钒合金靶材
 
 
一、Nickel-Vanadium（NiV）镍钒合金靶材作为一种高性能的磁控溅射靶材材料，在现代工业和技术领域展现出了  的特性和广泛的应用优势。以下是对其特性及行业应用优势的详细阐述。我司深耕靶材领域十年，专注研发与生产，铸就行业精品。公司生产合金和金属化合物靶材如下：
 
 
 
  
 
   
 
    
 
ALLOYS & INTERMETALLICS    合金和金属化合物
 
 
   
 
   
 
    
 
Aluminum-Silver ( AlAg)
 
 
    
 
Cobalt-Iron (CoFe)
 
 
   
 
   
 
    
 
Aluminum-Cobalt ( AlCo)
 
 
    
 
Cobalt-Nickel (CoNi)
 
 
   
 
   
 
    
 
Aluminum-Chromium ( AlCr)
 
 
    
 
Gold-Germanium (AuGe)
 
 
   
 
   
 
    
 
Aluminum-Iron ( AlFe)
 
 
    
 
Gold-Tin (AuSn)
 
 
   
 
   
 
    
 
Aluminum-Indium ( Al/In)
 
 
    
 
Gold-Zinc (AuZn)
 
 
   
 
   
 
    
 
Aluminum- Magnesium (Al/Mg)
 
 
    
 
Hafnium-Lanthanum (Hf/La)
 
 
   
 
   
 
    
 
Aluminum-Copper (AlCu)
 
 
    
 
Manganese- Iridium (Mn/Ir)
 
 
   
 
   
 
    
 
Aluminum-Gold (AlAu)
 
 
    
 
Nickel-Chromium (NiCr)
 
 
   
 
   
 
    
 
Aluminum-Boron (AlB)
 
 
    
 
Nickel-Chromium-Iron (NiCrFe)
 
 
   
 
   
 
    
 
Aluminum-Silicon (AlSi)
 
 
    
 
Nickel-Iron (NiFe)
 
 
   
 
   
 
    
 
Aluminum-Silicon-Copper (AlSiCu)
 
 
    
 
Nickel-Titanium (NiTi)
 
 
   
 
   
 
    
 
Aluminum- Zirconium ( AlZr)
 
 
    
 
Nickel-Vanadium (NiV)
 
 
   
 
   
 
    
 
Chromium-Iron (CrFe)
 
 
    
 
Nickel-Zirconium (NiZr)
 
 
   
 
   
 
    
 
Chromium-Silicon (CrSi)
 
 
    
 
Tungsten-Titanium (WTi)
 
 
   
 
   
 
    
 
ALLOYS & INTERMETALLICS    合金和金属化合物
 
 
   
 
   
 
    
 
Aluminum-Silver ( AlAg)
 
 
    
 
Cobalt-Iron (CoFe)
 
 
   
 
   
 
    
 
Aluminum-Cobalt ( AlCo)
 
 
    
 
Cobalt-Nickel (CoNi)
 
 
   
 
   
 
    
 
Aluminum-Chromium ( AlCr)
 
 
    
 
Gold-Germanium (AuGe)
 
 
   
 
   
 
    
 
Aluminum-Iron ( AlFe)
 
 
    
 
Gold-Tin (AuSn)
 
 
   
 
   
 
    
 
Aluminum-Indium ( Al/In)
 
 
    
 
Gold-Zinc (AuZn)
 
 
   
 
   
 
    
 
Aluminum- Magnesium (Al/Mg)
 
 
    
 
Hafnium-Lanthanum (Hf/La)
 
 
   
 
   
 
    
 
Aluminum-Copper (AlCu)
 
 
    
 
Manganese- Iridium (Mn/Ir)
 
 
   
 
  
 
 
 
 
 
 
 
特性
 
 
纯度
 
 
镍钒合金靶材的纯度是其性能优劣的关键因素之一。   的镍钒合金靶材通常要求纯度达到99.99%以上，甚至高。高纯度确保了靶材在溅射过程中杂质含量极低，从而提高了溅射薄膜的质量和性能。
 
 
密度
 
 
镍钒合金的密度约为8.0 g/cm3，比铁略轻，但比不锈钢轻。这种适中的密度使得镍钒合金靶材在溅射过程中具有好的稳定性和可控性。
 
 
熔点
 
 
镍钒合金的熔点较高，约为1350℃（也有资料指出为960℃，这可能与具体的合金成分和制备工艺有关）。高熔点使得镍钒合金靶材在高温溅射过程中能够保持稳定的性能，不易变形或破裂。
 
 
化学成分
 
 
镍钒合金的主要成分为镍和钒，同时还可能含有其他合金元素。钒的加入显著提高了合金的硬度和强度，同时增强了其耐腐蚀性能。典型的镍钒合金成分如Ni-7V，通过精确控制钒的含量，可以优化合金的性能以满足不同应用需求。
 
 
物理性质
 
 
 
 
 
热膨胀系数：镍钒合金的热膨胀系数与不锈钢相似，约为1.2 x 10^-5 /℃。
 
 
热导率：镍钒合金的热导率较低，为11.6 W/mK，这有助于在溅射过程中保持靶材的温度稳定。
 
 
电导率：镍钒合金的电导率相对较低，为13% IACS，但在某些应用中，这种较低的电导率并不会成为限制因素。
 
 
磁性：镍钒合金在高温下具有弱的磁性，这有利于磁控溅射过程的进行。
 
 
 
 
 
 
 
 
应用优势
 
 
薄膜制备领域
 
 
镍钒合金靶材在薄膜制备领域应用广泛，特别是在光学、电子和半导体等领域。其高纯度和稳定的性能使得溅射薄膜具有优异的附着力和耐磨性，适用于光存储、太阳薄膜电池、平板显示器镀膜等应用。
 
 
电化学领域
 
 
镍钒合金靶材可以用作电容器的阳极材料，具有耐腐蚀性能和高的充电/放电速率。在电化学储能系统中，镍钒合金靶材的优异性能有助于提高电容器的能量密度和循环寿命。
 
 
3D打印领域
 
 
随着3D打印技术的发展，镍钒合金靶材在3D打印领域也展现出了广阔的应用前景。利用3D打印技术，可以便捷地制备出复杂形状的镍钒合金零件，并在材料的性质和质量上得到保证。这种技术为航空  、核工业等应用领域提供了新的解决方案。
 
 
其他领域
 
 
镍钒合金靶材还广泛应用于建筑玻璃镀膜、磁性材料制备等领域。其优异的耐腐蚀性和高温稳定性使得镍钒合金靶材在这些领域中具有不可替代的地位。
 
 
综上所述，Nickel-Vanadium（NiV）镍钒合金靶材以其  的特性和广泛的应用优势，在现代工业和技术领域中发挥着越来越重要的作用。随着科技的不断进步和应用的不断拓展，镍钒合金靶材的性能和应用前景将 加广阔。
 
 
 
 高纯镍靶材Ni 真空镀膜靶材 镍钒合金NiV靶技术参数 
 

    
 
 
 高纯镍靶材Ni 真空镀膜靶材 镍钒合金NiV靶使用说明 
 

    
 
 
 高纯镍靶材Ni 真空镀膜靶材 镍钒合金NiV靶采购须知