商标 | Bondscale 自动化生产键合系 |
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型号 | Bondscale 自动化生产键合系 |
规格 | Bondscale 自动化生产键合系 |
包装 | Bondscale 自动化生产键合系 |
别名 | Bondscale 自动化生产键合系 |
是否有现货 | 是 |
品牌 | Bondscale 自动化生产键合系 |
用途 | Bondscale 自动化生产键合系 |
自动化程度 | 半自动 |
是否加工定制 | 是 |
电流 | 交流 |
型号 | Bondscale 自动化生产键合系 |
规格 | Bondscale 自动化生产键合系 |
商标 | Bondscale 自动化生产键合系 |
包装 | Bondscale 自动化生产键合系 |
BONDSCALE 自动化生产键合系统基本介绍ONDSCALE™ Automated Production Fusion Bonding System
BONDSCALE™ 自动化生产熔合系统
启用3D集成以获得更多收益
技术数据
EVG BONDSCALE旨在满足广泛的融合/分子晶圆键合应用,包括工程化的基板制造和使用层转移处理的3D集成方法,例如单片3D(M3D)。借助BONDSCALE,EVG将晶片键合应用于前端半导体处理中,并帮助解决国际设备和系统路线图(IRDS)中确定的“更多摩尔”逻辑器件扩展的长期挑战。结合增强的边缘对齐技术,与现有的熔融粘合平台相比,BONDSCALE大大提高了晶圆粘合生产率,并降低了拥有成本(CoO)。
BONDSCALE与EVG的行业基准GEMINI FB XT自动融合系统一起出售,每个平台针对不同的应用。虽然BONDSCALE将主要专注于工程化的基板键合和层转移处理,但GEMINI FB XT将支持要求 对准精度的应用,例如存储器堆叠,3D片上系统(SoC),背面照明的CMOS图像传感器堆叠以及管芯分区。
特征
在单个平台上的200 mm和300 mm基板上的全自动熔融/分子晶圆键合应用
通过等离子活化的直接晶圆键合,可实现不同材料,高质量工程衬底以及薄硅层转移应用的异质集成
支持逻辑缩放,3D集成(例如M3),3D VLSI(包括背面电源分配),N&P堆栈,内存逻辑,集群功能堆栈以及超越CMOS的采用的层转移工艺和工程衬底
技术数据
晶圆直径(基板尺寸)200、300毫米;
数量或过程模块:8;
通量:每小时 40个晶圆
处理系统4个装载口;
特征
多达八个预处理模块,例如清洁模块,LowTemp™等离子活化模块,对准验证模块和脱
胶模块
XT框架概念通过EFEM(设备前端模块)实现 吞吐量
光学边缘对齐模块:Xmax / Ymax = 18 µm 3σ
BONDSCALE 自动化生产键合系统性能特点BONDSCALE 自动化生产键合系统技术参数BONDSCALE 自动化生产键合系统使用说明BONDSCALE 自动化生产键合系统采购须知