基本介绍 
 
 
 高纯贵金属铑溅射靶材(Rh)铑环铑颗粒蒸发镀膜 
 
 
 产 
 品 
 详 
 情 
 
 
 随着靶材在磁记录介质、电子半导体、薄膜太阳能及平面显示等产业的发展，我们加大在稀贵金属靶材研发和制备方面的投入力度，通过原料控制、真空感应熔炼、挤压、轧制、真空热压烧结、热等静压、放电等离子体烧结等不同工艺 
 , 
 并采用严格的质量控制过程，我们能够制备多种靶材并能一直保持着批量供货。 
 

  性能特点 
 
 
 
 
  
 
   
 
    
产品名称：
 
    
铂靶、钯靶、银靶、铱靶、铑靶
 
   
 
   
 
    
牌号规格：
 
    
Pt1、Pd1、Ag1、Ir1、Rh1
 
   
 
   
 
    
用途：
 
    
主要用于磁记录介质、电子半导体、薄膜太阳能及平面显示等领域。
 
   
 
  
 
 
 
 

  技术参数 
 
 
 铑溅射靶材 
 Rhodium (Rh) 
 
 
  
 
   
 
    
形状
 
    
圆形、方形
 
   
 
   
 
    
尺寸
 
    
Φ50~170mm
 
   
 
   
 
    
厚度
 
    
3~15mm
 
   
 
   
 
    
纯度
 
    
≥3N5
 
   
 
  
 
 
 
 注：其它尺寸可根据客户要求制作。具体尺寸请联系销售。 
 

  使用说明 
 
 
 产 
 品 
 详 
 情 
 随着靶材在磁记录介质、电子半导体、薄膜太阳能及平面显示等产业的发展，我们加大在稀贵金属靶材研发和制备方面的投入力度，通过原料控制、真空感应熔炼、挤压、轧制、真空热压烧结、热等静压、放电等离子体烧结等不同工艺 
 , 
 并采用严格的质量控制过程，我们能够制备多种靶材并能一直保持着批量供货。 
 

  采购须知 
 

  交货快，运输