氧化铌靶材
 
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我司的氧化铌靶材采用  的真空热压、热等静压、冷压烧结和热喷涂工艺生产，产品包括矩形靶、圆弧靶和管靶等类型。
 
纯度：99.99%；              
 
形状：圆柱形、平面；           
 
冷压烧结平面靶材尺寸：长宽范围10-600毫米（可根据客户的尺寸定制）。
 
管靶尺寸：外径50-160mm，厚度4-17.5mm ；长度200-4000mm（可根据客户的尺寸定制）             
 
 密度：4.3 g/cm3～4.5g/cm3 ，相对密度＞99%两种              
 
电阻率：小于0.1 （20℃）               
 
工艺：氧化铌旋转靶采用等离子喷涂工艺，氧化铌平面靶采用冷压烧结、真空热压、热等静压三种工艺均可提供               
 
用途：氧化铌靶材，主要用于薄膜太阳能、光学玻璃镀膜、触摸屏AR膜、LOW-E玻璃膜（低辐射玻璃）、半导体、触摸屏、平板显示器、工具装饰镀膜等。 
 
 
 
 
 
 
 
氧化铌靶
 
Niobium oxide target
 
性能
 
Product performance
 
化学成分/at%
 
Composition
 
Nb2Ox，x=4.5～4.8
 
纯度/%
 
Purity
 
99.99
 
密度/g/cm3
 
Density
 
≥4.5
 
晶粒度/μm
 
Grain size
 
≤5
 
金属杂质总和/ppm
 
Total content of metallic impurities
 
≤100
 
电阻率/Ω   
 
Resistivity
 
5×10-4
 
规格尺寸/mm
 
Size
 
平面靶
 
Planar target
 
热等静压/热压，≤500×250
 
Hot isostatic pressing/Hot pressing
 
旋转靶
 
Rotating target
 
热喷涂成形
 
thermal spraying
 
长度Length≤4000
 
厚度Thickness≤17.5