铬旋转靶材、铬管靶
 
铬管靶可加工成热等静压（HIP）整体成型铬管靶和喷涂铬管靶，两种铬管靶相比，热等静压整体成型铬管靶具有氧含量低、致密度高、镀膜均匀致密质量好等优点，缺点成本较高。
 
 
 
 
 
热等静压铬管靶
 
纯度：99.8% 
 
工艺：热等静压一体成型高纯铬靶
 
常用规格：高纯铬管靶，高纯铬环靶，长度500~2000mm,直径:70-155mm,管厚：3-10mm，按您的要求定做。
 
相对于传统等离子喷涂，热等静压管靶单边 加厚，使用寿命 长是，传统喷涂靶3倍，含氧量 低。
 
  
 
喷涂铬管靶 
 
成型工艺：热等静压、喷涂
 
用途：工具镀膜、装饰镀膜、建筑玻璃镀膜
 
常规尺寸：ID125xOD145~155xL （mm）
 
 
 
 
 
性能
 
Product performance
 
喷涂铬管靶材
 
Spraying chromium tube target
 
热等静压整体成形铬管靶材
 
Integral formingchromium tube target by HIP
 
氧含量/ppm
 
Oxygen content
 
≤5000
 
80-1500
 
镀膜均匀性
 
Deposition uniformity
 
1.     整管轴向致密度相差较大
 
2.     整炉上中下L、A、B值相差较大
 
3.     无法保证产品膜层的一致性
 
1.     The density of the tube target along the axial is different.
 
2.     The value of L, A and B is different in the whole furnace.
 
3.     The consistency of the product film can not be guaranteed
 
1.     整管均匀性高
 
2.     密度接近于纯金属热挤压密度，管材通体密度一致
 
3.     无松散区、无暗区
 
4.     PVD膜层的厚度及颜色的一致性好
 
5.     整炉上中下L、A、B值统一性好
 
1.     High uniformity of the whole tube
 
2.     The density of the whole tube target is close to hot extrusion density and is consistent
 
3.     No loose area and dark area
 
4.     The consistency of the thickness and color of the PVD film is good
 
4.     The values of L, A and B in the whole furnace are good.
 
5.     The value of L, A and B is consistent in the whole furnace.
 
镀膜电流密度
 
Deposition current density
 
无法实现大电流长时间工作
 
Can not work for a long 
 
大功率长时间稳定工作
 
Can steadily work for a long time under high power  time at large current