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溅射镀膜用铌靶材,铌合金靶材,耐热、耐腐蚀高导电

价格: 面议

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供货总量: 9999件

产地: 湖南省/长沙市

发货期: 未填写

长沙市啟睿新材料有限公司

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主营产品：: 溅射靶材,蒸发镀膜材料,半导体材料,太阳能光伏材料,金属粉末,氧化物粉末,各种金属制品,镀膜基片,坩埚,陶瓷材料

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- 产品参数 -

商标	AEM
型号	多种型号
规格	圆靶材、方靶材，具体参数看内容或联系客服
包装	真空包装
是否有现货	是
认证	ISO9001
类型	稀有金属
型号	多种型号
规格	圆靶材、方靶材，具体参数看内容或联系客服
商标	AEM
包装	真空包装
纯度	99.95%、99.99%、按需求

- 产品详情 -

用途：铌及铌合金靶材主要应用于表面工程材料，如船舶、化工、液晶显示器（LCD）以及耐热、耐腐蚀高导电等镀膜行业，薄膜太阳能工业，低辐射玻璃工业，平板显示工业，光学镀膜工业，工具及装饰镀膜工业。

纯度：99.9%，99.95%，99.99%

规格：

方形靶材：长度（200mm~2500mm）x宽度（10mm~1000mm）x厚度（1mm～25mm）

圆靶材：直径Φ（25mm~800mm）x厚度（3mm～28mm）

铌旋转靶采用真空熔炼工艺，可生产最大长度4000mm，厚度根据客户要求定制。

铌平面靶采用真空熔炼工艺，可生产最大长度2500mm，最大宽度400mm，尺寸可根据客户要求加工。

再结晶:95％少；
表面粗糙度 : Ra 0.4；
晶粒度: 40μm；

溅射镀膜用铌靶材,铌合金靶材,耐热、耐腐蚀高导电810104082

铌靶材化学成分表一：

牌号	主要成份	其它杂质 %
Nb	Fe	Si	Ni	W	Mo	Ti	Ta	O	C	H	N
Nb1	剩余	0.004	0.004	0.002	0.005	0.005	0.002	0.07	0.015	0.0040	0.0015	0.003
Nb2	剩余	0.01	0.01	0.005	0.02	0.01	0.004	0.10	0.02	0.01	0.0015	0.008

铌靶材化学成分表二：

牌号	化学成分：PPM，不大于
Fe	Si	Mo	W	Ti	Cr	Ta	Ni	O	C	H	N	(Nb+Ta)%≥
Nb3	20	20	80	100	10	10	1000	20	250	100	15	150	99.9%
Nb2	10	10	50	50	5	5	500	10	200	50	10	100	99.95%
Nb1	5	5	10	20	1	1	100	1	100	30	10	50	99.99%

物理性能：

标准号

抗拉强度，磅 /英寸2（兆帕）

屈服强度（0.2%的残余变形） ,磅/英寸2 （兆帕）

伸长率, ,%

1英寸(25.4毫米)标距

RO4200-1

RO4210-2

18000 (125)

12000 (85)

25

方靶材尺寸、公差（毫米，不大于）

厚度	厚度公差	宽度	宽度公差	长度	长度公差
一级	二级
3~8	±0.1	±0.2	50~400	±0.2	50~1800	±0.2
8~14	±0.1	±0.2	50~350	±0.2	50~1500	±0.2
≥14	±0.1	±0.2	50~300	±0.2	50~1200	±0.2

圆靶材尺寸、公差（毫米，不大于）

厚度	厚度公差	直径	直径公差
一级	二级
3~8	±0.1	±0.2	50~450	±0.2
8~14	±0.1	±0.2	50~450	±0.2
≥14	±0.1	±0.2	50~400	±0.2

如需其它规格的铌靶材可联系我们定制或访问https:///获取更多溅射靶材信息

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