高纯溅射钽靶材 半导体
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产地
湖南省/长沙市
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长沙市啟睿新材料有限公司

身份认证
主营产品:
溅射靶材,蒸发镀膜材料,半导体材料,太阳能光伏材料,金属粉末,氧化物粉末,各种金属制品,镀膜基片,坩埚,陶瓷材料
- 产品参数 -
商标 AEM
型号 多种型号
规格 多种规格
包装 小件真空袋包装,外纸箱包装
是否有现货
类型 有色重金属
型号 多种型号
规格 多种规格
商标 AEM
包装 小件真空袋包装,外纸箱包装
- 产品详情 -

 高纯溅射钽靶材 半导体828133702

钽靶材:钽平面靶材、钽多弧靶材、
用途:主要应用于半导体镀膜和光学镀膜

牌号:RO5200, RO5400, RO5252(Ta-2.5W), RO5255(Ta-10W)

纯度:99.9%99.95% ,99.99%,99.999%

高纯溅射钽靶材 半导体828134262
规格:

方靶材,厚度x宽度x长度=(1mm25mm)x≤(10mm-800mm)x≤2000mm
圆靶材,直径x厚度=Φ(25mm-800mm) x (3mm28mm)

公差:直径公差+/- 0.254

再结晶: 少95%

晶粒度40μm

表面粗糙度Ra 0.8

平整度0.1mm or 0.10%

成份

牌号

主要成份

杂质含量  不大于%

Ta

Nb

Fe

Si

Ni

W

Mo

Ti

Nb

O

C

H

N

Ta1

剩余

——

0.005

0.005

0.002

0.01

0.01

0.002

0.04

0.02

0.01

0.0015

0.01

Ta2

剩余

——

0.03

0.02

0.005

0.04

0.03

0.005

0.1

0.03

0.01

0.0015

0.01

TaNb3

剩余

<3.5

0.03

0.03

0.005

0.04

0.03

0.005

——

0.03

0.01

0.0015

0.01

TaNb20

剩余

17.0~23.0

0.03

0.03

0.005

0.04

0.03

0.005

——

0.03

0.01

0.0015

0.01

Ta2.5W

剩余

 

0.005

0.005

0.002

3.0

0.01

0.002

0.04

0.02

0.01

0.0015

0.01

Ta10W

剩余

 

0.005

0.005

0.002

11

0.01

0.002

0.04

0.02

0.01

0.0015

0.01

高纯溅射钽靶材 半导体828133692

我司可提供质量 的钽靶材。纯度为3N到5N,晶粒度致密性好,使用性能稳定。
 

应用:钽靶主要应用于光导纤维、半导体、集成电路和磁记录等溅射沉积镀膜,钽靶材可用于阴极溅射涂层,高真空吸气活性材料等。

高纯溅射钽靶材 半导体828133712
如有特殊要求,请联系我们具体商定。

 

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