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商标 | 纯源镀膜 |
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型号 | Pis系列 |
规格 | 按需定制 |
包装 | 按需定制 |
产量 | 100 |
型号 | Pis系列 |
规格 | 按需定制 |
商标 | 纯源镀膜 |
包装 | 按需定制 |
膜层厚度 | 纳米、微米 |
是否加工定制 | 是 |
用途 | 功能性涂层实现基材产品本身不具备的性能 |
镀膜设备-纯离子真空镀膜机基本介绍系列设备主要是(集)纯离子镀膜技术(PIC)、 高能离子束清洗技术(IONBEAM)和磁控溅射技术(SPUTTER)三种技术融合一体,可适应广泛镀膜靶材,无论金属还是介质、化合材料都可以利用溅射工艺进行镀膜及成膜,使膜层具有高致密度、超硬、耐磨损、耐腐蚀等特点。可镀制TiN、TiC、TiCN、TiAlN、CrN、CU、AU、 类金刚石膜(TAC、DLC)、装饰膜等非金属及其化合物的膜层和复合膜层。可编程序控制器(PLC)+触摸屏(HMI)组合电气控制系统,全自动控制。镀膜设备-纯离子真空镀膜机性能特点1、传动装置为水冷式:设计新颖、结构紧凑、系列间通用、互换性强;水冷式机座,散热效果佳;滚动轴承及传动齿轮可加润滑油运行,使用寿命增长3-5倍;
2、旋转装置为行星旋转机构、据镀膜工艺不同,设计为:公转式、公/自转式;
3、采用气动门铰,自动锁门,减少操作程序,增强真空门整体的密闭性及减少对橡胶密封圈的破坏性;
4、真空容器设计为新型结构,用户可据自己的需求,升级为多功能镀膜设备;
5、多弧离子部份采用镀膜工艺技术,即可镀制装饰膜,也能镀制功能膜,数道工艺,一次完成,科学;
6、智能控制:PLC智能控制+HMI全彩人机触控界面,实现全自动控制;
7、报警及保护:异常情况进行报警,并执行相应保护措施。
镀膜设备-纯离子真空镀膜机技术参数1、膜层致密、粘附性好;膜层均匀性可调;高稳定性;高功率;
2、均匀性好;优化磁场设计,维护方便;有效水冷设计,靶材可以连续24小时工作;
3、腔体接口通用尺寸,互换性强,优化升级方便;
4、磁场设计+布气方式,提高了有效镀膜空间和膜层均匀性;
5、实时记录历史数据和分析数据曲线,对品质管理管控和工艺开发有明显帮助。强大的软件功能,友好的人机界面,实时记录工艺数据,利于质量管控、疑难分析、开发新工艺等;
6、模块化工艺配方,灵活设定子配方和总配方,子配方添加/删减方便,一键式操作即可完成多层工艺配方。
镀膜设备-纯离子真空镀膜机使用说明注明:以上数据来源于安徽纯源镀膜科技有限公司- 材料实验室-检测结果镀膜设备-纯离子真空镀膜机采购须知
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