磁控溅射镀膜设备主要是采用本公司成熟的技术：高能离子束清洗+磁控溅射源。设备采用全自动化控制，模块化集成优化，设备功率高、稳定性能好、操作简单且维护方便。为满足不同的镀膜需求腔室内可设计配置平面圆形靶、条形靶和圆柱靶等多种靶材，可获得致密度高、均匀性能好的多层复合膜，包括各种金属、半导体、铁磁材料以及绝缘的氧化物、陶瓷薄膜等。适合研发及批量镀膜服务。
 
 
主要应用：
 
>金属、非金属及陶瓷氧化物的各类膜层和复合膜层；
 
>太阳能电池、液晶显示;
 
>磁光信息存储、铁磁材料；
 
>硬质耐磨、材料保护和防腐等各个领域。
 
 
产品特点：
 
>灵活性高、应用范围广；
 
>核心技术、工艺成熟;
 
>膜层性能：硬度高、摩擦系数低;
 
>多种膜层系列、可大批量高效率生产等。
 
 
 
 注明：以上数据来源于安徽纯源镀膜科技有限公司-  材料实验室-检测结果