商标 | 日本高纯度 |
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型号 | 溅射靶材 |
规格 | 溅射靶材 |
包装 | 真空包装 |
是否有现货 | 是 |
加工定制 | 是 |
种类 | 高纯度靶材 |
特性 | 薄膜材料 |
用途 | 薄膜材料 |
型号 | 溅射靶材 |
规格 | 溅射靶材 |
商标 | 日本高纯度 |
包装 | 真空包装 |
溅射靶材溅射靶材是一种通过溅射法生成薄膜的材料,由金属及陶瓷加工制造而成。我们通过将熔化技术,烧结技术,合成技术以及加工技术进行技术融合,可以对各种素材,纯度以及形状的产品进行处理。金属靶材高纯度金属Al,Co,Cu,Fe,Mg,Mn,Sn高熔点金属合金Cr,Mo,Nb,Ta,Ti,V,W系列的合金非磁性合金Al,Bi,Cu,Mg,Sn,Zn系列的合金/Bi2Te3,Mg2Si磁性合金Co,Fe,Ni系列的合金/Co-Fe-B,Co-Pt,Fe-Pt赫斯勒合金Co,Fe,Ni基赫斯勒合金Mn系列的合金Mn-Al,Mn-Bi,Mn-Ga,Mn-Ir,Mn-Si贵金属合金Au,Ag,Pt,Pd系列的合金无机化合物靶材氧化物Al2O3,MgO,SiO2,TiO2,ZnO,La2O3,ITO,PZT,STO,LiCoO2,Li4Ti5O12,Li3PO4碳化物SiC,B4C,WC其他化合物氮化物,氟化物,磷化物,硫化物,硒化物复合靶材金属相Co-Cr-Pt,Fe,Fe-Ni,Fe-Pt等各种纯金属?合金非金属相Al2O3,MgO,SiO2等各种氧化物?氮化物
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