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成都真空设备厂家 surpass大口径等离子刻蚀 半导体刻蚀 离子束刻蚀 反应离子刻蚀 可定制
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- 订货量
- ≥1
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- ≥1
- 供货总量
- 10套
- 产地
- 四川省/成都市
- 发货期
- 自买家付款之日起100天内发货
- 产品参数 -
| 产量 | 10 |
|---|---|
| 材质 | 不锈钢 |
| 驱动方式 | 其它 |
| 原理 | 等离子刻蚀 |
- 产品详情 -
●本设备主要用于半导体刻蚀，能够兼容离子束刻蚀和反应离子刻蚀功能，使用气态化学刻蚀剂与材料产生反应来进行刻蚀，并形成可从衬底上移除的挥发性副产品，通过真空系统排出，特别适合刻蚀熔融石英、硅、光刻胶、聚酷亚胺( PI) 薄膜、金属等材料。
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