曝光能量的高低对品质也有影响： 1能量低，曝光不足，显像后阻剂太软，色泽灰暗，蚀刻时阻剂破坏或浮起，造成线路的断路. 2.能量高，则会造成曝光过度，则线路会缩小或曝光区易洗掉. 5.7显影 5.7.1原理：显像即是将已经曝过光的带干膜的板材，经过(1.0+/-0.1)[%]的碳酸钠溶液(即显影液)的处理，将未曝光的干膜洗去而保留经曝光发生聚合反应的干膜,使线路基本成型. 5.7.2影响显像作业品质的因素： a﹑显影液的组成 b﹑显影温度. c﹑显影压力. d﹑显影液分布的均匀性.e﹑机台转动的速度. 5.7.3制程参数管控：液溶度，显影温度，显影速度，喷压. 5.7.4显影品质控制要点： a﹑出料口扳子上不应有水滴，应吹干净. b﹑不可以有未撕的干膜保护膜. c﹑显像应该完整，线路不可锯齿状，弯曲，变细等状况. d﹑显像后裸铜面用刀轻刮不可有干膜脱落，否则会影响时刻品质. e﹑干膜线宽与底片线宽控制在+/-0.05mm以内的误差. f﹑线路复杂的一面朝下放置，以避免膜渣残留，减少水池效应引起的显影不均. g﹑根据碳酸钠的溶度，生产面积和使用时间来及时更新影液，保证  的显影效果. h﹑应定期清洗槽内和喷管，喷头中之水垢，防止杂质污染板材和造成显影液分布不均匀性.