日本Samco RIE刻蚀 ,ICP刻蚀机基本介绍 
 

  设备为采用独自研发的 旋转式 ICP 线圈的刻蚀设备。 
 
 通过搭载的ICP 线圈，HSTC （ Hyper Symmetrical Tornado Coil），可实现高 RF 功率加电且均一 性良好，是保证高速加工的设备。 
 
 
 日本Samco RIE刻蚀 ,ICP刻蚀机性能特点 
 

    新型线圈系统 HSTC（Hyper Symmetrical Tornado Coil）  
 
 ·线圈并排排列提高 RF 功率加电的效率，可选配进行3KW的高RF加电。 
 
 ·调整线圈形状，达到堆成状态实现良好的均匀性。  
 
 ·分散供电点，控制向石英板上的飞溅。 
 
 ·可对应单片 8 寸晶圆，并通过托盘搬送实现小尺寸晶圆的多枚加工。（2寸x  7枚） 
 
   采用气体供给构造，防止气体的泄露并实现良好的均一性。 
 
   通过大流量排气系统的良好排气电导性能，可实现从小流量高真空领域，到大流量低 
 
 真空领域的大范围对应。并且可减少附带生成物的二次附着。 
 
   通过下部的电极升降机，将样品和等离子体的距离适度化，保持侵蚀速度的同时实 
 
 现内部均一性的调整。 
 
 
 日本Samco RIE刻蚀 ,ICP刻蚀机技术参数 
 

    功率半导体加工。 
 
   各种光学传感器加工。 
 
   诱电体，金属等难刻蚀材料的加工。 
 
 
 日本Samco RIE刻蚀 ,ICP刻蚀机使用说明 
 

    恒温循环装置（20-200 度） 
 
   高周波电源 ICP：3kW/Bias：3kW 规格 
 
   工艺气体供给系统增设（  增加 8 套）   终点检测监测系统（干涉型，分光型） 
 
 
 日本Samco RIE刻蚀 ,ICP刻蚀机采购须知