基本介绍 
 
 
 嘉仪通晶化快速退火炉RTP-3-01系列采用红外辐射加热技术，可实现1吋(选配2吋)样品快速升温和降温，同时搭配高精度温度控制系统，可达到温场均匀性，对薄膜材料进行晶化快速退火处理，提高薄膜材料的均匀性及稳定性。 
 

  性能特点 
 
 
 
快速加热和降温: 可控升温速率可达50 ℃/s，特定条件下可以达到100 ℃/s。冷壁水冷设计能够达到较大的降温速率，特定条件下可达30 ℃/s。
 
 
   控温: 采用工业级温控器进行PID  控温，目标温度与设定温度曲线一致性高，可实现室温至1200 ℃的温度精确控制。
 
 
 适应多种工艺环境: 满足多种工艺气氛下的热处理（氮气、氩气等）。同时，通过选配真空泵，可以在真空条件下进行退火，真空度可达10-3Pa。
 
 
 配备观察窗口: 通过观察窗口，可以实时观察热处理过程中的样品变化。同时，可以结合相关测试方法进行原位测试分析。
 
 
 高安全系数: 采用炉壁超温报警系统和冷却水流量报警系统，全方位保障仪器使用。
 
 
 国产退火炉：拥有研发技术和制造能力，能快速反应客户售后需求。
 
 
 
 

  技术参数 
 
 
 
 
  
 
   
 
    
 
型号
 
 
    
 
RTP-3-01系列
 
 
   
 
   
 
    
 
温度
 
 
    
 
1200℃
 
 
   
 
   
 
    
 
升温速率
 
 
    
 
50℃/s
 
 
   
 
   
 
    
 
温度均匀性
 
 
    
 
≦1%设定温度
 
 
   
 
   
 
    
 
温度控制
 
 
    
 
选用工业级温控器，控温精度±0.1℃
 
 
   
 
   
 
    
 
温度传感器
 
 
    
 
标准K型热电偶
 
 
   
 
   
 
    
 
降温速率
 
 
    
 
1200℃→400℃，200℃/min
 
400℃→100℃，20℃/min
 
（自然冷却）
 
 
   
 
   
 
    
 
样品尺寸
 
 
    
 
W20 x L20 x T2 (mm)
 
 
   
 
   
 
    
 
主机尺寸
 
 
    
 
W420X L320X H220 (mm)
 
 
   
 
   
 
    
 
主机重量
 
 
    
 
20.5kg
 
 
   
 
  
 
 
 
 

  产品案例                     
 
 
 
晶化快速退火炉客户案例：
 
 
清华大学使用嘉仪通1吋晶化快速退火炉给HfO2薄膜做晶化退火，得到晶相一致晶粒较小的晶体，提高薄膜材料的均匀性及稳定性。
 
 

    
 
 
 关键词：晶化退火炉 晶化退火设备  晶化快速退火炉