钛靶一、牌号国内牌号：TA1、TA2、TA3、TA7、TA9、TA10、TC4、TC11。美标牌号：GR1、GR2、GR3、GR5、GR7、GR11。二、靶材的主要性能要求:（1）纯度纯度是靶材的主要性能指标之一，因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中，对靶材的纯度要求也不尽相同。（2）杂质含量靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如，半导体工业用的纯铝及铝合金靶材，对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。（3）密度为了减少靶材固体中的气孔，提高溅射薄膜的性能，通常要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不仅影响溅射速率，还影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。此外，提高靶材的密度和强度使靶材能  地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之一。（4）晶粒尺寸及晶粒尺寸分布通常靶材为多晶结构，晶粒大小可由微米到毫米量级。对于同一种靶材，晶粒细小的靶的溅射速率比晶粒粗大的靶的溅射速率快；而晶粒尺寸相差较小(分布均匀)的靶溅射沉积的薄膜的厚度分布 均匀。三、加工工艺锻造、轧制。四、表面车光、倒角。表面清洁光滑，无起皮，气孔，裂纹等缺陷。五、规格Φ100*40，Φ98*40，Φ95*45，Φ90*40，Φ85*35，Φ65*40较常见，其他规格可按客户要求制作。六、执行标准国标：GB/T16598，GB/T2965。美标：ASTMB381,ASTMF67,ASTMF136,ASTMB348。七、检测破坏性检测：物理性能测试，硬度测试，化学成分测试。无损检测：超声检测，渗透检测，外观检测。