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离子束刻蚀机 全自动IBE离子束刻蚀 那诺-马斯特
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- 999台
- 产地
- 美国
- 发货期
- 自买家付款之日起120天内发货
- 产品参数 -
| 商标 | Nano-master |
|---|---|
| 型号 | Nie-4000（a） |
| 规格 | 台 |
| 包装 | 原厂 |
| 是否有现货 | 否 |
| 品牌 | 那诺-马斯特/nano-master |
| 适用范围 | 医疗卫生,化工,生物产业,电子,制药 |
| 分类 | 实验室仪器 |
| 类目 | 离子束刻蚀机 |
| 型号 | Nie-4000（a） |
| 规格 | 台 |
| 商标 | Nano-master |
| 包装 | 原厂 |
- 产品详情 -
NIE-4000（A）全自动IBE离子束刻蚀产品概述：如铜和金等金属不含挥发性化合物，这些金属的刻蚀无法在RIE系统中完成。然而通过加速的Ar离子进行物理刻蚀则是可能的。通常情况下，样品表面采用厚胶作为掩模层，刻蚀期间富有能量的离子流会使得基片和光刻胶过热。除非可以找到有效的方式消除热量，否则光刻胶将变得非常难以去除。
NANO-MASTER技术已经证明了可以把基片温度控制在50° C以内的同时，旋转晶圆片以达到想要的均匀度。
NIE-4000（A）全自动IBE离子束刻蚀产品特点：
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14.5”不锈钢立体离子束腔体
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16cm DC离子 1200eV,650mA, 气动不锈钢遮板
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离子束中和器
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氩气MFC
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6”水冷样品台
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晶片旋转速度3、10RPM，真空步进电机
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步进电机控制晶圆片倾斜
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自动上下载晶圆片
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典型刻蚀速率：铜200 ?/min, 硅：500 ?/min
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6”范围内，刻蚀均匀度+/-3%
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极限真空5x10-7Torr，20分钟内可达到10-6Torr级别（配套500 l/s涡轮分子泵）
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配套1000 l/s涡轮分子泵，极限真空可达8x10-8Torr
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磁控溅射Si3N4以保护被刻蚀金属表面被氧化
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基于LabView软件的PC计算机全自动控制
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菜单驱动，4级密码访问保护
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完整的联锁
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