高纯钨靶钨板靶平面钨靶材锆靶材钽靶材基本介绍产品信息品名：钨靶钨靶材钨板靶钨溅射靶材牌号：W1标准：GB/T3875密度：19.3g/cm3纯度：99.95%熔点：3410℃使用温度：真空或惰性气体下2600℃极限厚度：≥0.05mm生产工艺：轧制--碱洗--磨光应用领域：镀膜行业，电子管栅极，真空炉高温构件，X射线靶材等包装方式：标准出口木箱，单箱重量不超过100kg发货方式：快递或物流发到客户指定地点高纯钨靶钨板靶平面钨靶材锆靶材钽靶材性能特点产品信息品名：钨靶钨靶材钨板靶钨溅射靶材牌号：W1标准：GB/T3875密度：19.3g/cm3纯度：99.95%熔点：3410℃使用温度：真空或惰性气体下2600℃极限厚度：≥0.05mm生产工艺：轧制--碱洗--磨光应用领域：镀膜行业，电子管栅极，真空炉高温构件，X射线靶材等包装方式：标准出口木箱，单箱重量不超过100kg发货方式：快递或物流发到客户指定地点高纯钨靶钨板靶平面钨靶材锆靶材钽靶材技术参数产品信息品名：钨靶钨靶材钨板靶钨溅射靶材牌号：W1标准：GB/T3875密度：19.3g/cm3纯度：99.95%熔点：3410℃使用温度：真空或惰性气体下2600℃极限厚度：≥0.05mm生产工艺：轧制--碱洗--磨光应用领域：镀膜行业，电子管栅极，真空炉高温构件，X射线靶材等包装方式：标准出口木箱，单箱重量不超过100kg发货方式：快递或物流发到客户指定地点高纯钨靶钨板靶平面钨靶材锆靶材钽靶材使用说明产品信息品名：钨靶钨靶材钨板靶钨溅射靶材牌号：W1标准：GB/T3875密度：19.3g/cm3纯度：99.95%熔点：3410℃使用温度：真空或惰性气体下2600℃极限厚度：≥0.05mm生产工艺：轧制--碱洗--磨光应用领域：镀膜行业，电子管栅极，真空炉高温构件，X射线靶材等包装方式：标准出口木箱，单箱重量不超过100kg发货方式：快递或物流发到客户指定地点高纯钨靶钨板靶平面钨靶材锆靶材钽靶材采购须知产品信息品名：钨靶钨靶材钨板靶钨溅射靶材牌号：W1标准：GB/T3875密度：19.3g/cm3纯度：99.95%熔点：3410℃使用温度：真空或惰性气体下2600℃极限厚度：≥0.05mm生产工艺：轧制--碱洗--磨光应用领域：镀膜行业，电子管栅极，真空炉高温构件，X射线靶材等包装方式：标准出口木箱，单箱重量不超过100kg发货方式：快递或物流发到客户指定地点