商标 | Tobey |
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型号 | 非标定制 |
规格 | 185nm,254nm,172nm |
包装 | 纸箱 |
产量 | 1000000 |
型号 | 非标定制 |
规格 | 185nm,254nm,172nm |
商标 | Tobey |
包装 | 纸箱 |
紫外线光清洗灯,UV清洗灯基本介绍光清洗制程:
使用UV是於1980年代初将光洗净法实用化,一直到90年代以改质为目的被广泛的应用。
由UV而产生之氧化反应,其效果依被处理物之种类而定分为洗净和改质两大项
而光处理法的基本原理UV是拥有杀菌能量的一种电磁波也是属於光的一种,其波长领域极广,
100mm ~400mm为紫外线放射范围,属於UV-C范围,因其波长短UV能量高,其值和很多有机物之化学结合之能量值相近,易起反应生成各种作用及效果,其中具代表的作用就是洗净.
改质对塑料玻璃陶瓷或是耐蚀性佳之金属而言有显著的效果
紫外线光清洗灯,UV清洗灯性能特点二、紫外光清洗的特点:
1、是一种无接触方式,可在空气中进行并且在清洗后不必进行干燥。
2、可 清除物体表面的碳和有机污染物。
3、无溶剂挥发及废弃溶剂的处理问题。
4、保证产品的高可靠性和高成品率。
5、产品表面清洗处理的均匀度一致。
6、由於光清洗是通过光敏、氧化反应去除物体表面的碳和有机化合物,所以容易发生氧化的表面不宜用光清洗方法,只适对表面污垢清洗、不适对污垢量较多,无机类污垢清洗。
紫外线光清洗灯,UV清洗灯技术参数
型 号
(U,H)
管 径
(D)
管 压
(V)
电 流
(mA)
功 率
(W)
安装长度
(mm)
弧 长
(mm)
备注
SVR40U
17.5
95±5
450
40
270
200
SVR70U
17.5
100±5
800
70
370
300
SVR90U
17.5
130±5
800
90
530
455
SVR110U
17.5
130±5
900
110
640
565
SVR160U
17.5
150±5
1000-1200
160
780
705
SVR200U
17.5
130±5
1200-1500
200
820
755
紫外线光清洗灯,UV清洗灯使用说明主要在液晶显示器件、半导体矽晶片、集成电路、高精度印制电路板、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属材料等生产过程中采用光清洗方法为合适。
主要材料:ITO玻璃、光学玻璃、铬板、掩膜板、抛光石英晶体、矽晶片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理。
可以去除污垢:有机性污垢、人体皮脂、化妆品油脂、树脂添加剂及聚酰亚胺、石蜡、松香、润滑油、残余的光刻胶等。
此UV光源在LCD工艺中又具有UV改质(紫外光表面质变)的特点,目前在液晶显示器STN的生产过程中,主要是用在膜处理技术上,对於改善膜与膜之间的密接是非常有效的,如ITO膜与感光胶膜层, 涂层与PI涂层等等。另在研究部门又可用来UV改性塑料材料产品,用於纳米技术研究,产品经此UV光照射发生化学反应,使产品表面性质改变。 STN-LCD、彩色滤光片及OLED的制作过程中,有些制程设备相当雷同,差别在於制造工艺要求的不同。随著线路的精细化及产品的彩色比,LCD产业对制造工艺的要求也不断地提升,而有"工欲善其事,必先利其器"之需求,因此只有设备能力不断地精进,才能提高生产的质量与效率。