药物晶种湿法研磨分散机基本介绍 
 

    
 
 
 药物晶种湿法研磨分散机性能特点 
 
 
 
湿法研磨分散设备采用高速研磨分散技术，通过高转速（高可达18000rpm）带动高精密的磨头定转子（通常配GM+8SF，定转子间隙在0.2-0.3之间）使晶种在设备的高线速度下形成湍流，在定转子间隙里不断的撞击、破碎、研磨、分散、均质，从而得出超细的颗粒（当然也需要合适的分散剂做助剂）。
 
 
GMD2000系列研磨分散机为立式分体结构，精密的零部件配合运转平稳，运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封，并通冷媒对密封部分进行冷却，把泄露概率降到 低，保证机器连续24小时不停机运行。
 
 
 
 药物晶种湿法研磨分散机技术参数 
 
 
 
 
  
 
   
 
    
 
研磨分散机
 
 
    
 
流量*
 
 
    
 
输出
 
 
    
 
线速度
 
 
    
 
功率
 
 
    
 
入口/出口连接
 
 
   
 
   
 
    
 
类型
 
 
    
 
l/h
 
 
    
 
rpm
 
 
    
 
m/s
 
 
    
 
kW
 
 
    
 
 
 
 
   
 
   
 
    
 
GMSD 2000/4
 
 
    
 
300
 
 
    
 
18,000
 
 
    
 
50
 
 
    
 
4
 
 
    
 
DN25/DN15
 
 
   
 
   
 
    
 
GMSD 2000/5
 
 
    
 
1000
 
 
    
 
13,000
 
 
    
 
50
 
 
    
 
11
 
 
    
 
DN40/DN32
 
 
   
 
   
 
    
 
GMSD 2000/10
 
 
    
 
3000
 
 
    
 
9,200
 
 
    
 
50
 
 
    
 
22
 
 
    
 
DN80/DN65
 
 
   
 
   
 
    
 
GMSD 2000/20
 
 
    
 
8000
 
 
    
 
2,850
 
 
    
 
50
 
 
    
 
37
 
 
    
 
DN80/DN65
 
 
   
 
   
 
    
 
GMSD 2000/30
 
 
    
 
20000
 
 
    
 
1,420
 
 
    
 
50
 
 
    
 
55
 
 
    
 
DN150/DN125
 
 
   
 
   
 
    
 
GMSD2000/50
 
 
    
 
60000
 
 
    
 
1,100
 
 
    
 
50
 
 
    
 
110
 
 
    
 
DN200/DN150
 
 
   
 
  
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 药物晶种湿法研磨分散机使用说明 
 

    
 
 
 药物晶种湿法研磨分散机采购须知