基本介绍 
 

  TiO2和石墨烯两个粉体的复合，需要借助液体介质来进行两者的混合和分散，一般需要将二氧化钛和石墨烯分散到液体中，形成悬浮液，需要对体系进行研磨分散，使悬浮液(或乳化液)体系中的分散物微粒化、均匀化的处理过程，这种处理同时起降低分散物尺度和提高分散物分布均匀性的作用，使得光触媒环保涂料产品稳定。结合多家客户案例，  GMSD2000系列高速研磨分散机，两级结构，先研磨后分散，转速0-18000rpm，研磨分散效果好，粒径小，均匀度高。 
 

  性能特点 
 
 
 
1、TiO2石墨烯研磨分散设备采用上海SGN技术，*创意，融化理念。将SGN高剪切胶体磨进行进一步的改良，在原来GM2000系列的基础上，将单一的胶体磨磨头模块，改良成两级模块，加入了一级分散盘（均质盘、乳化盘）。从而形成改良型的胶体磨，先研磨后分散（均质、乳化），将物料的处理一步到底的完成，我们将这种改良的胶体磨也称为“研磨分散机”。
 
 
2、TiO2石墨烯复合浆料纳米分散机采用德国博格曼双端面机械密封，在保证冷却水的前提下，可24小时连续运行。而普通分散机很难做到连续长时间的运行，并且普通分散机不能承受高转速的运行。通过梳齿状定子切割破碎，缝隙疏密决定细度大小，高线速度的吸料式叶轮提供很强的切割力。
 
 
3、GMSD2000系列TiO2石墨烯复合浆料研磨分散机的结构:研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。一级由具有精细度递升的三层锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。
 
 

  技术参数 
 
 
 
TiO2石墨烯复合浆料研磨分散机选型表
 
 
 
  
 
   
 
    
 
 
    
 
标准流量（H2O）
 
 
    
 
输出转速
 
 
    
 
标准线速度
 
 
    
 
马达功率
 
 
    
 
进出口尺寸
 
 
   
 
   
 
    
 
型号
 
 
    
 
l/h
 
 
    
 
rpm
 
 
    
 
m/s
 
 
    
 
kW
 
 
    
 
 
   
 
   
 
    
 
GMSD 2000/4
 
 
    
 
300-1,000
 
 
    
 
14000
 
 
    
 
44
 
 
    
 
2.2
 
 
    
 
DN25/DN15
 
 
   
 
   
 
    
 
GMSD 2000/5
 
 
    
 
1,000-1.500
 
 
    
 
10,500
 
 
    
 
44
 
 
    
 
7.5
 
 
    
 
DN40 /DN 32
 
 
   
 
   
 
    
 
GMSD 2000/10
 
 
    
 
3,000
 
 
    
 
7,300
 
 
    
 
44
 
 
    
 
15
 
 
    
 
DN50 / DN50
 
 
   
 
   
 
    
 
GMSD 2000/20
 
 
    
 
8,000
 
 
    
 
4,900
 
 
    
 
44
 
 
    
 
37
 
 
    
 
DN80 /DN 65
 
 
   
 
   
 
    
 
GMSD 2000/30
 
 
    
 
20,000
 
 
    
 
2,850
 
 
    
 
44
 
 
    
 
75
 
 
    
 
DN150 /DN 125
 
 
   
 
   
 
    
 
GMSD 2000/50
 
 
    
 
40,000
 
 
    
 
2,000
 
 
    
 
44
 
 
    
 
160
 
 
    
 
DN200 /DN 150
 
 
   
 
  
 
 
 
 
 
 
 

    
 

    
 

    
 

    
 

    
 

  使用说明 
 

    
 

  采购须知