原位   体分析仪（HCL HF O2)基本介绍 
 
 
 
JNYQ-O-15型激光分析仪（师工：18392148897）
 
 
概述
 
 
     JNYQ-O-15型激光分析仪采用了可调谐激光吸收光谱技术（Tunable Diode Laser Absorption Spectroscopy，简称TDLAS）的原理，可测量过程气体成分中的特定气体的浓度，包括CO、CO2、O2、H2S、HCL、HF等。该系统具有灵敏度高、响应速度快、不受背景气体干扰、非接触式光学测量等特点。
 
 
 
 原位   体分析仪（HCL HF O2)性能特点 
 
 
 
HCL    体分析仪监测原理
 
 
激光过程气体分析系统基于国际  的半导体激光吸收光谱技术（DLAS），即“单线光谱”测量技术。系统采用可调制的半导体激光器为发光光源，通过调制半导体激光器的工作电流强度来调制激光频率，使激光扫描范围略大于被测气体的单吸收谱线。从而使半导体激光器发射的特定波长的激光束在穿过测量管时，被被测气体选频吸收，从而导致激光强度产生衰减。于是系统利用不同气体成分均有不同的特征吸收谱线及气体浓度和红外或激光吸收光谱之间存在的Beer-Lambert关系，通过检测吸收谱线的吸收大小（即激光强度衰减信息）就可以获得被测气体的浓度。
 
 
 
 
 
 原位   体分析仪（HCL HF O2)技术参数 
 
 
 
HF   体分析仪特点
 
 
 
  
不受背景气体交叉干扰；
 
  
可应用与电捕焦后等恶劣工况；
 
  
维护费用成本低；
 
  
不受粉尘和视窗污染干扰；
 
  
不受被测气体环境参数变化干扰；
 
  
一体化设计，结构紧凑，可靠性高；
 
  
模块化设计，可现场更换所有功能模块，包含激光器模块；
 
  
智能化程度高，操作、维护方便；
 
  
无需采样预处理系统，系统结构简单；
 
  
响应速度快，响应时间不超过1s，保证及时进行工艺控制；
 
  
无样  放，环保   ；
 
 
 
 
原位   体分析仪（HCL HF O2)原位   体分析仪（HCL HF O2)原位   体分析仪（HCL HF O2)原位   体分析仪直接对过程气体进行分析，测量准确性高；
 
 
 
 原位   体分析仪（HCL HF O2)使用说明 
 
 
 
类别
 
 
参数
 
 
指标
 
 
技术指标
 
 
监测组分
 
 
CO、CO2、O2、H2S、HCL、HF等
 
 
量    程
 
 
具体量程根据客户要求确定
 
 
线性误差
 
 
≤±1%F.S./半年
 
 
量程漂移
 
 
≤±1%F.S./半年
 
 
重复性
 
 
＜1%
 
 
防爆等级
 
 
ExdIICT6 Gb
 
 
防护等级
 
 
IP66
 
 
响应时间
 
 
预热时间
 
 
≤15min
 
 
响应时间（T90）
 
 
≤1s
 
 
接口信号
 
 
模拟量输出
 
 
2路4～20mA电流（隔离、最大负载750Ω）
 
 
继电器输出
 
 
3路输出（继电器规格：24V，1A）
 
 
模拟量输入
 
 
2路4～20mA电流（温度、压力补偿）
 
 
通讯接口
 
 
RS485/RS232/GPRS
 
 
电气特性
 
 
电源
 
 
24VDC（18～36VDC）
 
 
功耗
 
 
＜10W
 
 
工作条件
 
 
环境温度
 
 
-30～60℃
 
 
储存温度
 
 
-40～80℃
 
 
吹扫气体
 
 
0.3～0.8MPa工业氮气或净化仪表气等
 
 
 
 
 
 原位   体分析仪（HCL HF O2)采购须知