维意真空小型4英寸热蒸发镀膜机
价格
面议
订货量
≥1
最小起订量
≥1
供货总量
2件
产地
北京市
发货期
自买家付款之日起60天内发货
北京维意真空技术应用有限责任公司

北京维意真空技术应用有限责任公司

身份认证
主营产品:
ALD原子层沉积镀膜设备,PECVD设备,磁控溅射镀膜机,真空腔体,真空配件,管式炉,马弗炉,热压炉,PLD激光脉冲沉积镀膜设备,探针台,低空环境模拟器,ALD/MO源瓶
- 产品参数 -
商标 wayes-vac
型号 CK-4
规格 500*600*650
包装 木箱包装
产量 12
是否有现货
加工定制
品牌 wayesvac
电镀位置 磁控溅射
镀种 真空镀膜
适用范围 10-5Pa
产品别名 磁控溅射镀膜机
电镀电源 直流电源
型号 CK-4
规格 500*600*650
商标 wayes-vac
包装 木箱包装
- 产品详情 -

 

设备配置:

  • 手套箱  
  1. 金属薄膜沉积与器件封装、检测用手套箱1台:  
    1. 箱体尺寸:双工位手套箱,长度约1800 mm。箱体预留镀膜

机接口法兰,手套箱后板可安装一台镀膜机,手套箱内具有

安装器件封装与性能检测装置的空间。  

    1. 配置4只手套,可方便实现沉积室取送样品,以及器件封装

与性能检测等操作。  

    1. 配置≥ 2套KF40标准接口。  

 

  1. 手套箱技术指标与功能要求:  

2.1箱体材料:不锈钢箱体。  

2.2箱体结构:具有可拆卸的 玻璃视窗;配双层不锈钢物

架;带有 阀;  

2.3密封性:视窗与箱体之间无泄漏,手套口与手套和视窗之

间密封良好、耐用,无泄漏。  

2.4泄露率:≤ 0.05vol%/h,泄漏率可检测;H2O < 1ppm,

O2< 1ppm。  

2.5 净化效率:高净化效率,再生间隔时间长。  

2.6 过渡仓:手套箱的箱体外侧各另设置一个过渡舱,过渡仓

尺寸≥ 150mm,长度为300 mm。

2.7传送及操作方式:过渡仓内设置可滑动托盘,样品可通过

移动托盘传送至手套箱内,托盘易于拆卸;手动操作。  

2.8控制系统用户友好的中英文操作界面的触屏。实现以下

控制功能:工作压力调节、箱内气体自动清洗、箱内气氛

自动报警、显示操作错误提示、可手动或自动检测泄漏率

等。  

2.9 其他附件:  (1)真空泵,气体纯化系统:气体纯化柱、

循环风机、有机溶剂吸附柱;  2)水、氧分析仪:分析

仪精度0.2 ppm或以上;分析仪输出可直接连接到触摸控制

屏,可对气体循环系统进行自动控制,实现自动循环;可设

定报警值;  3)箱内电源接口:配多孔电源插座。  (4)

手套箱总体功能要求:样品送入大(或小)过渡仓后,可在

高纯气氛或真空气氛条件下实现有机薄膜沉积、金属电极薄

膜沉积、器件封装及性能检测等功能。  5)手套箱验收

标准:使用99.999%惰性气源,空箱运转,箱内水氧含量均

小于1ppm。  

  • 真空热蒸发镀膜机系统  
  1. 技术要求:  

1.1真空度: 极限真空< 2.5*10-5Pa,工作真空度< 8*10-4Pa,

抽速:从大气抽至10-4Pa用时应≤ 30min;  

1.2样品架:  (1)可对样品实施360度电动旋转,转速可

0 ~ 30转/min内连续调节。  (2)高度可调,蒸镀

距离在120-250mm范围内可调节。  

1.3样品尺寸:样品基本尺寸为15×15mm/块,可分别承装如

下数量的样品:  1)3块×3块排列方式,可承装9块

/次。  (2)4块×4块排列方式,可承装16块/次。  

1.4各密封接口真空漏率≤ 5×10-9Torr?L/s(用进口氦质谱

检漏仪检测)。  

1.5 膜厚控制设备:膜厚探头2个,探测数据可同时显示在膜

厚仪上。  

1.6 样品台(基片台)配备挡板,蒸发源配备可有效防止不同

材料交叉污染的遮挡装置。  

  1. 配置:  

2.1 真空沉积腔体:具有观察窗,手动开门设置方便取样和

进样。  

2.2镀膜机与手套箱的连接方式:  要求镀膜机位于手套箱外

(背后),蒸发室在手套箱内有方形门,可实现样品由手套

箱内直接传进蒸镀室。要求蒸镀室与箱体之间无泄漏,蒸

镀室口与手套箱接口密封良好、耐用,无泄漏。  

2.3要求蒸发室在手套箱外另有一个门,手动开门设置,便于

清理和维修操作。  

2.4 蒸发源4套:可蒸发金(Au)、 银(Ag)、铬(Cr)、钛(Ti)、

铝(Al)、铂(Pt)、氧化钼(MoO3)和LiF等材料。蒸发

源相关的其他要求如下:  1)蒸发电极可加载蒸发舟

或者钨篮,配备标准钼舟及钨蓝各10个。  (2)蒸发电

1套,可转换供四套蒸发源使用,可在一次抽真空操作

后实现4种材料的顺次蒸镀,既可连续蒸镀4层不同材料。  

2.5 真空获得系统:预抽机械泵1个,分子泵1个以及相应的

附件,分子泵水冷系统;分子泵与沉积室之间具备闭锁条

件。  

2.6升降样品架。  

2.7真空测量系统。  

2.8膜厚测试系统。  

2.9工作台:含真空计,蒸发源电源和相应控制系统,加热源

控制系统,膜厚测量系统,总电源控制区。  

您还可以搜索
朋友圈二位码

长按二维码,保存至相册。
发送给微信好友。