立式真空镀膜设备真空镀膜机多级直管磁过滤涂层机基本介绍 
 

  Ta-C涂层是一种无氢碳元素涂层，是类金刚石涂层(DLC)的一种，又称为四面非晶体碳(Tetrahedralamorphouscarbon),其sp3与sp2键的比值较高，其sp3键含量为80%~90%，具有硬度。 
 
 
 立式真空镀膜设备真空镀膜机多级直管磁过滤涂层机性能特点 
 

   涂层硬度高，具有  的耐磨性能; 具有优异的耐腐蚀性，能耐各种酸、碱腐蚀; 对金属、塑料、橡胶、陶瓷等均有良好的抗粘结和防咬合性能; 
 
  表面粗糙度低; 
 
  与基体的结合力很好，可在各种钢、钛合金、硬质合金等材料上沉积。 
 
 
 立式真空镀膜设备真空镀膜机多级直管磁过滤涂层机技术参数 
 

  内尺寸：700x900(mm) 
 
 靶材数量：6套动态磁多弧石墨靶用于镀膜，靶材直径中100; 
 
 磁控离子源：溅射靶材刻蚀，增加刀具表面清洁效果同时提供良好的高膜基结合力 
 
 转架：6轴下悬挂公自转，可正反转，采用液压车进出炉 
 
 加热系统：炉内侧面加热方式，9组加热，每组3.8KW，共35KW，上中下加热均匀 
 
 
 立式真空镀膜设备真空镀膜机多级直管磁过滤涂层机使用说明 
 
 
  
  
  
  
  
  
  
  
 
 
 立式真空镀膜设备真空镀膜机多级直管磁过滤涂层机采购须知