USC干式超声波清洗设备基本介绍 
 
 
 
主要应用：
 
 
    液晶屏液晶模组类、平板、硅片、电池薄膜及其它薄膜类等清洗除尘。
 
 
 
 
 
 
 USC干式超声波清洗设备性能特点 
 

  处理方式: 
 
 通过高压震荡风吹出把工作物表面粉尘吹离膜面,再利用负压风同时带离 
 
 表面,造成无接触式除尘,是一种    清洁的干式去除粉尘设备. 
 

  需要去除的产品表面的污染物类型：主要是干燥的颗粒浮尘; (粘性尘埃 
 
 及水迹不能处理) 
 
 
 USC干式超声波清洗设备技术参数 
 
 
 
除去率：1.6 um, 3μｍ-5μｍ≥98%
 
 
工作尺寸：点状或长度L=20-500mm （超过500mm亦可订制）。
 
 
 
 USC干式超声波清洗设备使用说明 
 

  干式清洗特点： 
 
    1、干式清洗不需要更换水或药液，洗后不用干燥，降低运行成本。 
 
    2、非接触式系统不会污染基板及损伤基板表面膜。 
 
    3、由于清洗机是闭循环系统，不会污染净化间。 
 
 
 USC干式超声波清洗设备采购须知