电子半导体用超纯水设备基本介绍 
 
 
 
典型工艺流程：
 1 预处理系统-反渗透系统-粗混床-精混床-紫外线杀菌器-抛光混床-精密过滤器-用水对象(≥18MΩ.CM)(传统工艺)
 2 预处理-反渗透-EDI装置-紫外线杀菌器-抛光混床-精密过滤器-用水对象(≥18MΩ.CM)(新工艺)
 3 预处理-一级反渗透-二级反渗透-EDI装置-紫外线杀菌器-精密过滤器-用水对象(≥15MΩ.CM) (新工艺)
 4 预处理-反渗透-EDI装置-紫外线杀菌器-精密过滤器-用水对象(≥15MΩ.CM)(新工艺) 
 5 预处理系统-反渗透系统-粗混合床-精混合床-紫外线杀菌器-精密过滤器-用水对象 (≥15MΩ.CM)(传统工艺) 
 6 预处理系统-反渗透系统-粗混合床-精密过滤器-用水对象 (≥5MΩ.CM)(传统工艺)
 水质标准：
 达到美国SEMI标准和国家电子级纯水标准
 设备特点：
 为满足用户需要，达到符合标准的水质，尽可能地减少各级的污染，延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量。在工艺设计上，取达到国家自来水标准的水为源水，再设有介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床系统(EDI电除盐系统)等。 系统中水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，真正做到了无人职守，同时在工艺选材上采用  和客户要求相统一的方法，使设备与其它同类产品相比较,具有高的性价比和设备可靠性。
 
 
 
 电子半导体用超纯水设备性能特点 
 
 
  
 
 
 电子半导体用超纯水设备技术参数 
 
 
  
 
 
 电子半导体用超纯水设备使用说明 
 
 
  
 
 
 电子半导体用超纯水设备采购须知