半导体制冷片温度控制半导体激光器温度控制基本介绍 
 

  产品介绍 
 
 本系列的“半导体温控平台、设备”是建立在半导体制冷片(热电制冷片)基础上设计的高性能温度控制系统，其特点是高精度和高稳定度、长寿命、体积小、无噪声、无磨损、无振动、既可制冷又可加热等优点，是真正的绿色产品。 
 
 本系列产品带有PID控制软件，智能无级控温，既可加热又可制冷。可用于控制激光器件、医疗器件、半导体器件、红外探测器、光电倍增管、或其它任何需要温度控制的地方。 
 
 该产品采用现代电力电子器件和高速微处理器(MPU)程序控制技术，以及PWM调制、双向电源、PID调节技术，具有  的电压、电流输出特性，开关机时无过冲、反冲、浪涌现象，并带有过流、过压、过温、欠温等保护电路，以及RS232或RS485远程控制接口 
 
 注：为了获到的精度、线性度、定度等,本产品采用标准日本进口NTC（热敏电阻）作为温度采样元件 
 
 
 半导体制冷片温度控制半导体激光器温度控制性能特点 
 

  产品特点 
 
 ？智能无级调温，双向温度控制 
 
 ？温度控制精度为±0.1度或0.01度 
 
 ？工作温度可任意设置(常规在-60℃～300℃之间选择，其它范围可定制) 
 
 ？工作温度超过上限/下限(软件设定)时报警 
 
 ？用户可以修改温度PID反馈参数 
 
 ？恒温模式：双向冷热恒温 
 
 ？具有过流、过压、过热等保护 
 
 ？具有硬件过温、欠温等保护电路 
 
 ？高稳定,高抗干扰,完全消除温度采样通道中的50/60Hz工频干扰 
 
 ？点阵液晶或触摸屏控制 
 
 ？友好的人机界面和故障诊断功能(在操作不当或电源故障时,电源将给出故障号提示) 
 
 ？模块尺寸：根据产品型号不同，具体参见产品手册 
 
 ？接受定制：可根据客户需要定制温控平台，夹具平台、恒温盒、恒温箱等 
 
 产品应用 
 
 ？半导体激光器、激光晶体，激光倍频晶体温度控制 
 
 ？固体温度控制、实验、科研温度控制 
 
 ？高低温实验等 
 
 
 半导体制冷片温度控制半导体激光器温度控制技术参数 
 

  参数 TLT 
 
 -FB120-30 TLT 
 
 -FB120-50 TLT 
 
 -WB120-80 TLT 
 
 -WB120-120 TLT 
 
 -WB120-200 TLT 
 
 -WB120-300 
 
 输入电压（VAC） AC220V±15% 
 
 制冷功率 
 
 （V） 30W 50W 80W 120W 200W 300W 
 
 冷却方式 风冷 水冷 
 
 控温精度 ±0.1℃或±0.01℃ 
 
 控温范围 -10℃~150℃ -60℃~100℃ 
 
 温度传感器 NTC（25℃-10K） 
 
 平台体积 120*120*100mm 
 
 温控仪体积 450×300×133mm 450×400×133mm 
 
 远程接口 RS232或RS485 
 
 显示 字符点阵液晶或真彩触摸屏4.3寸 
 
 
 半导体制冷片温度控制半导体激光器温度控制使用说明 
 

    
 
 
 半导体制冷片温度控制半导体激光器温度控制采购须知