小型真空磁控溅射仪膜厚监测仪晶振片原理基本介绍 
 

  KT-Z1650PVD 是一款小型台式溅射功率可控磁控溅射仪，仪器虽小功能齐全，配备有电压 电流反 馈,样品台旋转，样品高度调节，及电动挡板功能 
 
 
 小型真空磁控溅射仪膜厚监测仪晶振片原理性能特点 
 

  通过定时调节预溅射功率及薄膜沉积功率，可对 大部分金属进行均匀物理沉积，真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染，样品台可旋转以获得均匀 的薄膜，可制备各种金属薄膜。 
 
 
 小型真空磁控溅射仪膜厚监测仪晶振片原理技术参数 
 

  1)、FTM106-Y 的主要技术指标如下： （1）厚度范围 0-99？9999？ （2）厚度显示分辨率 1？ （3）速率范围 0-999.9？ （4）速率显示分辨率 0.1？ （5）晶振频率 6MHZ 
 
 
 小型真空磁控溅射仪膜厚监测仪晶振片原理使用说明 
 

  探头输入 来源于晶片 继电器输出    50V 0.3A DC 无感负载（镀膜时继电器触点闭合，未镀膜时继电器触点断开） 
 
 
 小型真空磁控溅射仪膜厚监测仪晶振片原理采购须知 
 

  （1）建立连接 将仪器配带的 USB 转 485 模块分别连接好电脑和 仪器，并将晶振连接到仪器的 A 或 B 接头处后，打开 软件。软件初次使用时，需先设置通讯参数。点击主 菜单的“系统设置”，出现如右侧设置界面。 选择正确的串口号（可到设备管理器中查看具体 串口号）。 通讯波特率和从机地址采用默认的 9600,1 即可， 无需更改。当通讯不成功时，请检查参数是否正确。 设置好后，点击“存储”按钮，将  设置保存