设备用途：用于大规模集成电路、电力电子、光电器件、光导纤维等行业的氧化、扩散、烧结、合金等工艺。
 
设备特点：单元组合方式。根据工艺的不同，可以在主机的基础上配气源柜、超净工作台、悬臂推拉舟等。    
 
主要技术指标：
 
  炉管数：1～4管
 
  配工艺管口径：Φ90～360 mm (3～12英寸)
 
  恒温区长度： 760～1000 mm±1.0℃ (300～800℃)  760～1000 mm±0.5℃(800～1280℃)
 
  单点稳定性： ±1.0℃/24h (300～800℃)    ±0.5℃/24h (800～1280℃)
 
  气源路数：   ≤7路，可配恒温源瓶、 氧合成点火器
 
  气体控制：   浮子/质量流量计
 
  悬臂舟参数： 速度：20～1000 mm/min    最大行程：2000 mm    定位精度：±1 mm    最大载荷：17 Kg
 
  超净工作台： 净化等级：100级（万级厂房） 噪音：≤62dB（A）    振动：≤3μm