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UV全波段镜面反光铝板
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高纯铝靶材-铝管靶-真空熔炼工艺
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- 产地
- 湖南省/长沙市
- 发货期
- 未填写
- 产品参数 -
| 商标 | AEM |
|---|---|
| 型号 | 多种型号 |
| 规格 | 多种规格 |
| 包装 | 小件真空袋包装，外纸箱包装 |
| 是否有现货 | 否 |
| 认证 | ISO9001 |
| 种类 | 溅射靶材 |
| 表面处理 | 刨光 |
| 工艺分类 | 真空熔炼 |
| 型号 | 多种型号 |
| 规格 | 多种规格 |
| 商标 | AEM |
| 包装 | 小件真空袋包装，外纸箱包装 |
- 产品详情 -
铝靶材、铝管靶、平面铝靶材、铝颗粒
纯度：99.95-99.9995%；
铝旋转靶采用真空熔炼工艺，可生产最大长度4000mm，厚度根据客户要求定制。
铝平面靶采用真空熔炼工艺，可生产最大长度2500mm，最大宽度400mm，尺寸可根据客户要求加工。
应用领域：薄膜太阳能工业，低辐射玻璃工业，平板显示工业，光学镀膜工业，工具及装饰镀膜工业。
名 称：高纯铝靶、铝颗粒、铝管靶
熔 点：660.4℃
符 号：Al
沸 点：2519℃
原子量：26.98
密 度：2.70g/cm3
纯 度：3N 4N 5N 5N5
产品名称
状态
纯度
尺寸
包装
高纯铝
靶材
5N 5N5
1-10英寸，可定制
片
高纯铝
颗粒
5N 5N5 6N
φ3*3mm，φ6*6mm
100g
高纯铝
丝状
5N 5N5
φ0.1-5mm
100g
高纯铝
片状
5N 5N5
0.03-10mm
1kg
产品优点
不纯物元素含量极低，导电性能好，光反射性能好，延展性好，耐腐蚀性能优良。
产品用途
芯片制造用靶材， 封装用靶材。
产品包装
真空包装/真空中性包装/特殊包装外加固包装
制作工艺
通过控制晶粒的生长形态的偏析法提纯工艺，用于高纯铝， 纯铝的提纯。
适用仪器
多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备
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