锰Mn靶材 镀膜靶材 真空熔练合金靶 纯度4N基本介绍 
 
 
 
高纯锰Manganese (Mn)靶材 磁控溅射 PVD真空镀膜靶材 真空熔练合金靶  纯度99.99%  科研实验材料 尺寸可定制 背板绑定服务
 
 
Manganese (Mn)靶材
 
 
一、Manganese (Mn)，中文名为锰，是一种过渡金属元素，具有  的物理和化学特性，在高科技和工业应用中发挥着至关重要的作用。尤其在靶材材料领域，锰靶材以其高纯度、高密度和特定的熔点等特性，在众多行业中展现出显著的应用优势。我司专注研发与生产，铸就行业精品。公司生产单材质靶材、电子束蒸发颗粒材料如下：
 
 
 
  
 
   
 
    
 
SINGLE ELEMENTS 单材质靶材、电子束蒸发颗粒
 
 
   
 
   
 
    
 
Aluminum (Al)
 
 
    
 
Nickel (Ni)
 
 
   
 
   
 
    
 
Antimony (Sb)
 
 
    
 
Niobium (Nb)
 
 
   
 
   
 
    
 
Arsenic (As)
 
 
    
 
Osmium (Os)
 
 
   
 
   
 
    
 
Barium (Ba)
 
 
    
 
Palladium (Pd)
 
 
   
 
   
 
    
 
Beryllium (Be)
 
 
    
 
Platinum (Pt)
 
 
   
 
   
 
    
 
Boron (B)
 
 
    
 
Rhenium (Re)
 
 
   
 
   
 
    
 
Cadmium (Cd)
 
 
    
 
Rhodium (Rh)
 
 
   
 
   
 
    
 
Carbon (C)
 
 
    
 
Rubidium (Rb)
 
 
   
 
   
 
    
 
Chromium (Cr)
 
 
    
 
Ruthenium (Ru)
 
 
   
 
   
 
    
 
Cobalt (Co)
 
 
    
 
Selenium (Se)
 
 
   
 
   
 
    
 
Copper (Cu)
 
 
    
 
Silicon (Si)
 
 
   
 
   
 
    
 
Gallium (Ga)
 
 
    
 
Silver (Ag)
 
 
   
 
   
 
    
 
Germanium (Ge)
 
 
    
 
Tantalum (Ta)
 
 
   
 
   
 
    
 
Gold (Au)
 
 
    
 
Tellurium (Te)
 
 
   
 
   
 
    
 
Hafnium (Hf)
 
 
    
 
Tin (Sn)
 
 
   
 
   
 
    
 
Indium (In)
 
 
    
 
Titanium (Ti)
 
 
   
 
   
 
    
 
Iridium (Ir)
 
 
    
 
Tungsten (W)
 
 
   
 
   
 
    
 
Iron (Fe)
 
 
    
 
Vanadium (V)
 
 
   
 
   
 
    
 
Lead (Pb)
 
 
    
 
Yttrium (Y)
 
 
   
 
   
 
    
 
Magnesium (Mg)
 
 
    
 
Zinc (Zn)
 
 
   
 
   
 
    
 
Manganese (Mn)
 
 
    
 
Zirconium (Zr)
 
 
   
 
   
 
    
 
Molybdenum (Mo)
 
 
    
 
 
 
 
   
 
  
 
 
 
 
 
 
 
 
  
材料特性：
 
 
 
 
1、锰靶材的纯度是其核心特性之一。高纯度的锰靶材能够确保在溅射镀膜和其他薄膜制备技术中提供稳定且连续的原子流，从而在基底上形成均匀、致密的薄膜。这种高纯度不仅提升了薄膜的质量和性能，还为后续的材料加工和产品应用奠定了坚实的基础。通过制备工艺，如电解沉积等，可以进一步减少杂质含量，提高锰靶材的纯度水平，满足严苛的应用需求。
 
 
2、密度是锰靶材的另一重要特性。锰的密度约为7.20g/cm3，这使得锰靶材在溅射过程中能够提供稳定的溅射速率和均匀的薄膜厚度。高密度的锰靶材还能在溅射过程中承受高能的离子轰击，减少裂纹和断裂的风险，从而延长靶材的使用寿命。这一特性对于保证薄膜的均匀性和稳定性至关重要，特别是在需要高精度和高质量薄膜的领域，如微电子和光电子行业。
 
 
3、锰的熔点较高，约为1244°C，沸点则  ，约为1962°C。这些特性使得锰靶材在高温环境下能够保持其物理和化学性质的稳定性。在溅射镀膜过程中，靶材会吸收大量的能量并转化为热量，而锰靶材的  热传导性能可以有效地将这些热量传递出去，防止靶材过热，从而保证了薄膜制备过程的稳定进行。高温稳定性还意味着锰靶材在溅射过程中不会因为高温而产生不必要的化学反应，从而保证了薄膜的纯度和性能。
 
 
三、行业领域应用：
 
 
1、在行业中，锰靶材的应用优势主要体现在以下几个方面。首先，在微电子和光电子行业中，锰靶材常被用于制作各类集成电路、微芯片以及光电子设备的薄膜材料，如LED和太阳能电池等。锰元素的高稳定性和良好的电化学性质使得它在这些领域能够提供  的电导性和抗腐蚀性，从而提高产品的性能和寿命。
 
 
2、其次，在磁记录行业中，锰靶材常被用于制作硬盘驱动器的磁性薄膜。锰元素的高磁性使得它在这些薄膜中能够提供  的磁性能，从而提高硬盘的存储密度和读写速度。此外，锰靶材还被广泛应用于锰基电池的制作中，如锰酸锂电池等。锰元素的高电化学活性使得它在这些电池中能够提供高能量的电化学反应，从而提高电池的性能和寿命。
 
 
3、此外，锰靶材在表面工程中也发挥着重要作用。锰元素的高稳定性和良好的抗腐蚀性使得锰靶材在制作防腐蚀、抗磨损的薄膜时能够提供长时间的保护效果。这些薄膜被广泛应用于汽车、航空  等工业领域，提高了产品的耐用性和可靠性。
 
 
综上所述，锰靶材以其高纯度、高密度和特定的熔点等特性，在微电子、光电子、磁记录、电池以及表面工程等多个行业中展现出显著的应用优势。随着科技的进步和市场的需求变化，锰靶材的制备技术和应用领域也将不断拓展和完善，为高科技产品的开发和生产提供材料支持。
 
 
 
 锰Mn靶材 镀膜靶材 真空熔练合金靶 纯度4N性能特点 
 

    
 
 
 锰Mn靶材 镀膜靶材 真空熔练合金靶 纯度4N技术参数 
 

    
 
 
 锰Mn靶材 镀膜靶材 真空熔练合金靶 纯度4N使用说明 
 

    
 
 
 锰Mn靶材 镀膜靶材 真空熔练合金靶 纯度4N采购须知