高精镀膜设备系列采用的纯离子镀膜源技术，设备腔体结构由装载腔室+真空镀膜工艺腔室组合而成。镀膜工艺系统由纯离子镀膜[PIC)+离子束洁洗(0NBEAM)融合而成。配有的电磁扫描系统和过减系统，可以过滤掉大颗粒离子团和原子团，因此制备的纳米薄膜非常致密和光滑，与工件的结合力很强，在均匀性、硬度、摩擦系数、耐冲击、耐腐蚀性能方面具有优势。可以制备出光学级Ta-C碳基薄膜，膜层中的正四面体结构(金刚石SP3键)可以达到75%以上，其物理化学性质和金刚石极其类似，具有的硬度(75GPa),极低的座擦系数(0.1),耐高温(在气保护环境下可以达到600C以上)等一系列优异特征。使用寿命比传统的DLC膜层延长几倍至几十倍不等,适合光学镜头模具,及精密产品的镀膜。
 
 
 
 
 
主要应用
 
> 精密光学 : 光学模压模具;
 
>高精机械加工: 精密机械零部件；
 
> 科研单位( 研究所大学实验室 )；
 
> 温度敏感的基材等。
 
产品特点
 
> 低温镀膜、过滤；
 
> 核心技术、工艺成熟；
 
>膜层性能: 硬度高、摩擦系数低；
 
>高精密膜层可大批量率生产等。
 
 
 
 注明：以上数据来源于安徽纯源镀膜科技有限公司-  材料实验室-检测结果