面议
离子源本体基本介绍 应用领域: 离子束刻蚀,离子束溅射,离子束辅助镀膜 离子源本体性能特点 完善的射频和离子源控制系统;快速达到放电稳定状态(10s以内);中和器快速稳定(3s以内);方便角度调解;优化的放电均匀性;法兰安装方便。 离子源本体技术参数 离子源本体使用说明 离子源本体采购须知
应用领域:
离子束刻蚀,离子束溅射,离子束辅助镀膜
完善的射频和离子源控制系统;快速达到放电稳定状态(10s以内);中和器快速稳定(3s以内);方便角度调解;优化的放电均匀性;法兰安装方便。
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