魔技纳米UV-Ultra 无掩膜直写光刻设备基本介绍  
 
 
 
高性能无掩膜直写光刻设备
 
 
专为工业级应用而设计的高性能无掩膜直写光刻设备。采用加工方式，搭配自研算法和高性能硬件，实现对准、拼接和套刻精度。具备高直写速度和高分辨率，适用于快速、  的加工需求。
 
 
 
 魔技纳米UV-Ultra 无掩膜直写光刻设备性能特点  
 
 
 
- 适用于大规模生产和工业级应用
 
 
- 从纳米级到十微米级多种加工模式，实现加工精度与速度
 
 
- 快速和简单的对准程序，实现2D/2.5D微纳结构加工
 
 
- 加工图案预览功能和对准误差补偿
 
 
- 加工面自动平整和自动聚焦，保证加工一致性
 
 
- 全自动化的可视控制系统与图形化编程语言的应用，显著提升设备调控的灵活性与自主性
 
 
- 对准、拼接和套刻精度
 
 
- 长时稳定性控制系统，保证加工稳定性与一致性
 
 
- 加工区域，适用不同尺寸基材，提供自动化样品吸盘夹具
 
 
- 扩展性，可选多种选配模块，快速升级服务
 
 
- 灰度曝光
 
 
- 无拼缝加工
 
 
 
 魔技纳米UV-Ultra 无掩膜直写光刻设备技术参数  
 
 
   
 
 
 魔技纳米UV-Ultra 无掩膜直写光刻设备使用说明  
 
 
 采用集成化设计和全自动控制，操作简便，适用于高达12英寸的基材。广泛应用于微流控、半导体、生物技术和微电子等领域。  
 
 
 魔技纳米UV-Ultra 无掩膜直写光刻设备采购须知  
 
 
 
魔技纳米科技创立于2017年，是一家纳米级三维直写加工设备制造与服务提供商、国家高新技术企业、省专精特新企业。主要业务为激光微纳三维直写光刻设备的研发、生产、销售及技术服务等。
 
 
研发团队拥有十余年微纳三维制造技术经验，在光学、电气、机械、软件、材料等方面，拥有完整的自主开发能力，可以为多行业应用场景提供专业的一体化解决方案。
 
 
企业推出了高精度纳米级3D打印设备、超快激光加工中心、无掩膜直写光刻设备三大系列及多款光刻胶产品，其中的商用纳米级三维激光直写系统，可实现70纳米精度的三维结构加工。凭借高精度、高速度、大幅面和长时稳定性等技术优势，实现了科研探索到商业化应用的跨越，有力推动了微纳三维制造在生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件、航空  等领域的规模化工业生产。