EVG®610  Mask Alignment System
 
 
EVG®610   掩模对准系统
 
 
 
 
 
EVG®610是一款紧凑的多功能研发系统，可处理200mm以下的小基板片和晶圆。
 
 
 
 
 
技术数据
 
 
EVG610支持多种标准光刻工艺，例如真空，硬，软和接近曝光模式，并可选择背面对准。此外，该系统还提供其他功能，包括键对准和纳米压印光刻（NIL）。 EVG610提供快速的处理和重新安装工具，可在不到几分钟的时间内转换用户需求。其  的多用户概念可以适应从初学者到专家级别的所有需求，因此使其非常适合大学和研发应用。
 
 
 
 
 
特征
 
 
晶圆/基片尺寸从  200 mm / 8'’                顶侧和底侧对齐能力
 
 
高精度对准台                                  自动楔形补偿序列
 
 
电动和配方控制的曝光间隙                      支持  的UV-LED技术
 
 
最小化系统占地面积和设施要求                  分步流程指导
 
 
远程技术支持：
 
 
多用户概念（无限数量的用户帐户和配方，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）
 
 
敏捷处理和转换重组；台式或带防震花岗岩台的单机版
 
 
附加功能：
 
 
键对齐         红外对准        纳米压印光刻（NIL）
 
 
 
 
 
技术数据
 
 
对齐方式：上侧对齐：≤±0.5 µm      底面要求：≤±2,0 µm
 
 
红外校准：≤±2,0 µm /基板材料，具体取决于
 
 
键对准：≤±2,0 µm      NIL对准：≤±2,0 µm
 
 
曝光源： 光源/紫外线LED光源      楔形补偿      全自动-SW控制
 
 
晶圆直径（基板尺寸）：高达100/150/200毫米
 
 
曝光设定：真空接触/硬接触/软接触/接近模式
 
 
曝光选项：间隔暴露/洪水暴露/扇区暴露       
 
 
  的对齐功能：手动对准/原位对准验证    手动交叉校正   大间隙对齐
 
 
系统控制：作业系统：Windows
 
 
文件共享和备份解决方案/无限制配方和参数；多语言用户GUI和支持：CN，DE，FR，IT，JP，KR；实时远程访问，诊断和故障排除；
 
 
纳米压印光刻技术，紫外线零。