高纯金属Cr铬靶材 磁控溅射 PVD真空镀膜靶材 颗粒 纯度99.99%  科研实验材料 尺寸定制 背板绑定服务
 
 
 
铬靶材，作为一种利用铬（Cr）元素制成的目标材料，在物理蒸发和溅射过程中扮演着至关重要的角色。其  的物理与化学特性，如高熔点、良好的电导率和耐腐蚀性，使其成为薄膜沉积领域的理想选择。本文将详细介绍铬靶材的基本特性、纯度、密度、熔点、化学成份等物理性能，并探讨其在各行业中的应用优势。我司专注研发与生产，铸就行业精品。公司生产单材质靶材、电子束蒸发颗粒材料如下：
 
    
 
     
 
      
 
       
 
SINGLE ELEMENTS 单材质靶材、电子束蒸发颗粒
 
 
      
 
      
 
       
 
Aluminum (Al)
 
 
       
 
Nickel (Ni)
 
 
      
 
      
 
       
 
Antimony (Sb)
 
 
       
 
Niobium (Nb)
 
 
      
 
      
 
       
 
Arsenic (As)
 
 
       
 
Osmium (Os)
 
 
      
 
      
 
       
 
Barium (Ba)
 
 
       
 
Palladium (Pd)
 
 
      
 
      
 
       
 
Beryllium (Be)
 
 
       
 
Platinum (Pt)
 
 
      
 
      
 
       
 
Boron (B)
 
 
       
 
Rhenium (Re)
 
 
      
 
      
 
       
 
Cadmium (Cd)
 
 
       
 
Rhodium (Rh)
 
 
      
 
      
 
       
 
Carbon (C)
 
 
       
 
Rubidium (Rb)
 
 
      
 
      
 
       
 
Chromium (Cr)
 
 
       
 
Ruthenium (Ru)
 
 
      
 
      
 
       
 
Cobalt (Co)
 
 
       
 
Selenium (Se)
 
 
      
 
      
 
       
 
Copper (Cu)
 
 
       
 
Silicon (Si)
 
 
      
 
      
 
       
 
Gallium (Ga)
 
 
       
 
Silver (Ag)
 
 
      
 
      
 
       
 
Germanium (Ge)
 
 
       
 
Tantalum (Ta)
 
 
      
 
      
 
       
 
Gold (Au)
 
 
       
 
Tellurium (Te)
 
 
      
 
      
 
       
 
Hafnium (Hf)
 
 
       
 
Tin (Sn)
 
 
      
 
      
 
       
 
Indium (In)
 
 
       
 
Titanium (Ti)
 
 
      
 
      
 
       
 
Iridium (Ir)
 
 
       
 
Tungsten (W)
 
 
      
 
      
 
       
 
Iron (Fe)
 
 
       
 
Vanadium (V)
 
 
      
 
      
 
       
 
Lead (Pb)
 
 
       
 
Yttrium (Y)
 
 
      
 
      
 
       
 
Magnesium (Mg)
 
 
       
 
Zinc (Zn)
 
 
      
 
      
 
       
 
Manganese (Mn)
 
 
       
 
Zirconium (Zr)
 
 
      
 
      
 
       
 
Molybdenum (Mo)
 
 
       
 
 
 
 
      
 
     
 
    
 
 
 
基本介绍
 
铬靶材是一种钢灰色、有光泽、坚硬且脆性的过渡金属。在真空中，铬靶材可以产生相对稳定的铬离子束，这一特性使其适用于制作衬底或表面涂层，用以保护基材或制作一些特别需要高氧化抗性的工业零件。铬靶材的形状多样，包括平面靶和异型定制靶，以满足不同应用的需求。其纯度通常可以达到2N5、3N甚至3N5，确保了高纯度的薄膜沉积。
 
1、物理性能
 
纯度：铬靶材的纯度是衡量其质量的重要指标。高纯度意味着 少的杂质，从而能够提高薄膜的电导率和光学性能。通常，铬靶材的纯度可以达到99.95%或  ，确保了薄膜沉积的高质量和稳定性。
 
密度：密度是指铬靶材的质量与体积的比值。接近理论密度的铬靶材能够保证  的溅射效率和薄膜均匀性。理想的铬靶材应接近或达到铬的理论密度（约7.19 g/cm³），以确保  的溅射效果。
 
熔点：铬的熔点高达1907℃，这一特性使得铬靶材在高温环境下表现出  的稳定性和耐用性。特别适用于需要高温加工的材料制备过程，如半导体制造中的薄膜沉积。
 
其他物理性能：铬靶材还具有良好的导热性和显著的硬度，这些特性使得其在高温和高压环境下仍能保持稳定。此外，铬靶材的晶粒大小通常在微米级别，细小的晶粒有助于形成平滑且均匀的薄膜，对提高薄膜的机械性能和耐腐蚀性有重要影响。
 
2、化学成份与化学性能
 
铬靶材的主要成分是铬（Cr），一般含量在95%以上。铬是一种银灰色的金属元素，具有良好的耐腐蚀性和耐磨性。在镀膜过程中，铬可以提供良好的导电性和较高的反射率。除了铬之外，铬靶材中还可能含有微量的其他元素，如镍（Ni）、铜（Cu）、钛（Ti）等，这些元素的存在可以进一步改善靶材的性能。
 
铬靶材具有良好的抗氧化性和耐腐蚀性，能够在自然环境下形成一层稳定的氧化膜保护金属不被进一步腐蚀。这一特性使铬靶材成为制造防护涂层和腐蚀性环境中使用的薄膜材料的理想选择。