高纯铝AL溅射靶材99.999%  镀膜材料磁控溅射靶99.99%铝靶 及铝靶绑定
 
铝溅射靶材（Al）Aluminium 
 
公司提供的溅射靶材，蒸发材料和其他沉积材料。请联系我们您所需求的溅射靶材和薄膜沉积材料的预算价格。实际价格可能会因市场波动而有所不同。所以请联络我们以获取当前价格或溅射靶材和其他未列出的沉积产品的报价。
 
铝（Al）的基本属性
 
铝是世界上 常见的金属之一。它可以在厨房用具，汽车，路灯和流行的铝箔食品包装中找到。铝是银白色的金属材料。在正常情况下，它是轻质的，可延展的，可延展的且无磁性的。它的密度为2.7 g / cc，熔点为660°C，蒸气压为10 -4在1,010°C时托。尽管它不是一种坚固的材料，但它还是热和电的良导体，并且能够形成耐腐蚀的氧化层。由于其高反应性，它在自然界中很少作为游离元素被发现。在真空中蒸发时，铝层会在望远镜，汽车前照灯，镜子，包装和玩具上形成反射涂层。它广泛用于航空  ，汽车照明，OLED和光学行业。
 
铝（Al）规格
 
 
 
 
  
 
   
 
材料类型
 
 
   
 
铝
 
 
  
 
  
 
   
 
符号
 
 
   
 
Al
 
 
  
 
  
 
   
 
原子重量
 
 
   
 
26.9815386
 
 
  
 
  
 
   
 
原子数
 
 
   
 
13
 
 
  
 
  
 
   
 
颜色/外观
 
 
   
 
银色，金属
 
 
  
 
  
 
   
 
导热系数
 
 
   
 
235瓦/米
 
 
  
 
  
 
   
 
熔点（℃）
 
 
   
 
660
 
 
  
 
  
 
   
 
热膨胀系数
 
 
   
 
23.1 x 10-6 /千
 
 
  
 
  
 
   
 
理论密度（g / cc）
 
 
   
 
2.7
 
 
  
 
  
 
   
 
Z比
 
 
   
 
1.08
 
 
  
 
  
 
   
 
溅镀
 
 
   
 
直流
 
 
  
 
  
 
   
 
最大功率密度（瓦/平方英寸）
 
 
   
 
150 *
 
 
  
 
  
 
   
 
绑定类型
 
 
   
 
铟，弹性体
 
 
  
 
  
 
   
 
注释
 
 
   
 
钨/钼/钽合金 蒸发或使用BN坩埚。
 
 
  
 
 
 
 
 
 
铝（Al）及其他合金形式
 
铝合金按化学成分可分为铝硅合金AlSi，铝铜合金AlCu，铝镁合金AlMg，铝锌合金AlZn和铝稀土合金，其中铝硅合金又有简单铝硅合金（不能热处理强化，力学性能较低，铸造性能好），特殊铝硅合金（可热处理强化，力学性能较高，铸造性能良好）。
 
 
 
其他溅射靶材及蒸发颗粒有铝铜合金，硅铝合金，铝硅铜合金，钛铝合金
 
 高纯铝溅射靶材（Al）Aluminium
 
 
 
 
 
高纯铝溅射靶材（Al）Aluminium作为关键材料，在半导体、显示技术、薄膜太阳能电池及光学涂层等多个行业中展现出  的应用优势，这主要得益于其  的物理和化学特性。
 
 
我司专注研发与生产，铸就行业精品。所生产单材质靶材如下：
 
 
 
 
 
 
  
 
   
 
SINGLE ELEMENTS 单材质靶材、电子束蒸发颗粒
 
 
  
 
  
 
   
 
Aluminum (Al)
 
 
   
 
Nickel (Ni)
 
 
  
 
  
 
   
 
Antimony (Sb)
 
 
   
 
Niobium (Nb)
 
 
  
 
  
 
   
 
Arsenic (As)
 
 
   
 
Osmium (Os)
 
 
  
 
  
 
   
 
Barium (Ba)
 
 
   
 
Palladium (Pd)
 
 
  
 
  
 
   
 
Beryllium (Be)
 
 
   
 
Platinum (Pt)
 
 
  
 
  
 
   
 
Boron (B)
 
 
   
 
Rhenium (Re)
 
 
  
 
  
 
   
 
Cadmium (Cd)
 
 
   
 
Rhodium (Rh)
 
 
  
 
  
 
   
 
Carbon (C)
 
 
   
 
Rubidium (Rb)
 
 
  
 
  
 
   
 
Chromium (Cr)
 
 
   
 
Ruthenium (Ru)
 
 
  
 
  
 
   
 
Cobalt (Co)
 
 
   
 
Selenium (Se)
 
 
  
 
  
 
   
 
Copper (Cu)
 
 
   
 
Silicon (Si)
 
 
  
 
  
 
   
 
Gallium (Ga)
 
 
   
 
Silver (Ag)
 
 
  
 
  
 
   
 
Germanium (Ge)
 
 
   
 
Tantalum (Ta)
 
 
  
 
  
 
   
 
Gold (Au)
 
 
   
 
Tellurium (Te)
 
 
  
 
  
 
   
 
Hafnium (Hf)
 
 
   
 
Tin (Sn)
 
 
  
 
  
 
   
 
Indium (In)
 
 
   
 
Titanium (Ti)
 
 
  
 
  
 
   
 
Iridium (Ir)
 
 
   
 
Tungsten (W)
 
 
  
 
  
 
   
 
Iron (Fe)
 
 
   
 
Vanadium (V)
 
 
  
 
  
 
   
 
Lead (Pb)
 
 
   
 
Yttrium (Y)
 
 
  
 
  
 
   
 
Magnesium (Mg)
 
 
   
 
Zinc (Zn)
 
 
  
 
  
 
   
 
Manganese (Mn)
 
 
   
 
Zirconium (Zr)
 
 
  
 
  
 
   
 
Molybdenum (Mo)
 
 
   
 
 
 
 
  
 
 
 
 
材料特性：
 
1、高纯铝溅射靶材以其  的纯度著称，通常铝含量超过99.99%甚至  ，这种高纯度确保了材料在沉积过程中能够形成高质量、低缺陷的薄膜。高纯度不仅减少了杂质对薄膜性能的影响，还提高了薄膜的导电性、附着力和耐腐蚀性，这对于需要高度精确控制的半导体制造过程尤为重要。
 
2、在密度方面，高纯铝溅射靶材经过精密加工，能够保持均匀的密度分布，这有助于在溅射过程中实现稳定的沉积速率和均匀的薄膜厚度。均匀的密度还意味着靶材在长时间使用过程中能够保持稳定的性能，减少因密度不均导致的薄膜质量问题。
 
3、熔点作为材料的重要物理性质，对于高纯铝溅射靶材来说同样具有重要意义。铝的熔点相对较低，这使得在溅射或蒸发过程中能够 容易地将其转化为气态或等离子态，进而沉积在基底上形成薄膜。然而，在特定应用中，如化学气相沉积（CVD）过程中，通过调节反应条件和沉积参数，可以在较低温度下获得高质量的高纯铝薄膜，从而避免了高温对基底材料的潜在损害。
 
三、行业应用领域：
 
1、高纯铝溅射靶材的优势尤为突出。在半导体领域，高纯度铝靶材用于沉积集成电路、存储器件等关键元件的薄膜，确保了元件的高性能和可靠性。随着晶圆尺寸的不断增大和线宽的持续缩小，对溅射靶材的材料性能和沉积工艺提出了  的要求，而高纯铝溅射靶材凭借其优异的性能成为了不可或缺的关键材料。
 
2、在显示技术、薄膜太阳能电池和光学涂层等领域，高纯铝溅射靶材也发挥着重要作用。例如，在LCD、OLED等显示技术中，高纯度铝靶材用于沉积透明导电氧化物层，提高了显示器的透明度和导电性能；在薄膜太阳能电池中，高纯度铝靶材则用于生产具有灵活性、重量轻和成本低等优点的太阳能电池；在光学涂层中，高纯度铝靶材可用于制备抗反射涂层、镜子和滤光片等光学元件，提高了产品的光学性能和耐用性。
 
综上所述，高纯铝溅射靶材以其高纯度、均匀密度和低熔点等优异特性，在半导体、显示技术、薄膜太阳能电池及光学涂层等多个行业中展现出广泛的应用优势和巨大的市场潜力。随着技术的不断进步和应用领域的不断拓展，高纯铝溅射靶材的应用前景将 加广阔。