维意真空PECVD等离子增强化学气象沉积镀膜设备
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产地
北京市
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北京维意真空技术应用有限责任公司

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主营产品:
ALD原子层沉积镀膜设备,PECVD设备,磁控溅射镀膜机,真空腔体,真空配件,管式炉,马弗炉,热压炉,PLD激光脉冲沉积镀膜设备,探针台,低空环境模拟器,ALD/MO源瓶
- 产品参数 -
商标 wayes-vac
型号 PECVD-12
规格 1200*650*750mm
包装 木箱包装
产量 12
是否有现货
品牌 wayes-vac
加工定制
最大电压 380V
功率 10KW
额定温度 1200摄氏度
主要用途 镀膜
型号 PECVD-12
规格 1200*650*750mm
商标 wayes-vac
包装 木箱包装
- 产品详情 -

PECVD系统就是为了使传统的化学气象沉积(CVD)反应温度降低,在普通CVD装置的前端加入RF射频感应装置将反应气体电离,形成等离子体,利用等离子体的活性来促进反应,所以这个系统称为增强型化学气相沉积系统(PECVD)。

该型号PECVD为单温区系列 款,综合了国内大多数厂家的管式PECVD系统的优点,成膜质量好,针孔较少,不易龟裂。而且控制部分采用了维意自主研发的实验电炉AIO全自动智能控制系统,使得操作 加简便,功能 加强大。

主要特点:

  1.  AIO控制系统——加热控制、等离子射频控制、气体流量控制、真空系统控

制集中于一个7英寸触摸屏进行统一集中调节和操控,协

调控制;

2. 管内压力自动平衡——管内压力实时监测,自动平衡管内压力。

3. 智能气路通断——每路气体均可定时通断,省时省力;

4. 射频功率和开关定时控制——预先设定好功率的大小和打开与关闭的时间,

自动运行;

  1.  炉膛移动速度可调——根据实验要求,用户可设定炉膛左右移动的速度可

距离;

6. 整机结构融为一体——移动方便,避免分散组装的困扰。

加热炉部分

1

炉膛模式

开启式炉膛

2

显示模式

7英寸触摸屏

3

极限温度

1200℃

4

工作温度

≤1150℃

5

升温速率

建议10℃/Min   Max:30℃/Min

6

加热温区

单温区/双温区

7

单温区长度

200 mm

8

炉管规格

60*1150 mm

9

控温精度

±1℃

10

密封方式

快速法兰密封

11

温度曲线

30段"时间—温度曲线"任意可设

12

预存曲线

可预存15条温度曲线

13

超温报警

14

过流保护

15

断偶提示

16

测温元件

K型热电偶

17

炉膛材料

氧化铝纤维

18

外形尺寸

800*560*1500MM

 射频电源功率

1

信号频率

13.56 MHz±0.005%

2

功率输出范围

5W-300W

3

功率稳定度

±0.1%

4

谐波分量

≤-50dbc

5

供电电压

单相交流(187V-253V) 频率50/60HZ

6

整机效率

>=70%

7

功率因素

>=90%

8

冷却方式

强制风冷

真空部分

1

工作电电压

220V±10%  50~60HZ

2

功率

500W

3

抽气速率

6L/s

4

进气口口径

KF25

5

排气口口径

KF25

6

转速

1450rpm

7

噪音

55dB

8

极限真空

4X10-2Pa

 气路系统(标配2路普通质量流量计, 的可选配)

1

1,2气路采用DB07K系列

准确度:±1.5%

重复精度:±0.2%

响应时间:气特性:14 Sec,电特性:10 Sec

工作压差范围:0.10.5 MPa

2

3路采用高精度CS200系列

准确度:±0.35%FS  ±1.0%SP

线性:±0.5%FS

重复精度:±0.2%FS

响应时间:气特性:1Sec

 整机系统特色

1

正压测量

-100Kpa---100Kpa

2

真空测量

10-2Pa ~100Kpa(支持Ar测量)

3

正压保护

支持

4

压力恒定

支持

5

智能气路

支持

6

气路定时

支持

7

射频工作时间设定

支持

8

移动速度调节

支持

9

系统真空度

4.8×10-1Pa

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