热蒸发镀膜机--  新闻资讯基本介绍 
 
 
 
 
  
 
热蒸发镀膜机-维意真空
 
 
  
设备用途：
 
 
 
 
这是一台高真空单室有机/金属热蒸发镀膜设备，主要用于有机半导体材料的物理化学性能研究实验、有机半导体器件的原理研究实验。
     该设备具有有机材料热蒸发—沉积和金属材料热蒸发—沉积成膜功能。它是在高真空条件下，通过加热材料的方法，在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜，在衬底上沉积各种金属或合金电极并形成器件。
 
 
 
 热蒸发镀膜机--  新闻资讯性能特点 
 
 
 
 
  
 
热蒸发镀膜机-维意真空设备主要技术特点：
 1、蒸发源组件石英复合组件，为电流控制方式，配有电压表与
 
 
 
 
 
电流表，3套蒸发源可实现2对共蒸， 2个金属蒸发源（电
 
 
极水冷），配有2套电控系统，额定电压5V，额定电流300A。
 2、最大样品尺寸100*100mm。
 3、真空获得为复合分子泵+机械泵，配有预抽真空系统，可在
 
 
分子泵不停止的情况下实现换样品，设备30分钟以内  
 
 
2*10-3pa，极限压力8*10-4pa。
 4、密封刀口无氧铜金属密封，其余用氟胶圈，真空管路用不锈
 
 
钢金属波纹管路，采用  真空阀门。
 5、每个蒸发源配挡板，基片配挡板，保证镀膜的可控性。
 6、样品旋转可在0-30转/分钟调速及定位。
  
 
 
热蒸发镀膜机--  新闻资讯技术参数
 
 
 
 
  
 
热蒸发镀膜机-维意真空设备主要组成：
 
 
 
 
 该设备由一台有机/金属真空蒸发镀膜室、分子泵真空机组、样品传送装置、电控系统、膜厚检测、组成。 
 
真空镀膜室：1组有机蒸发源、2组金属蒸发源、旋转样品台、样品挡板、真空获得与测量、电源系统等组成。真空室为前开门式，便于取放样品及换蒸发源，主机与机柜分体式便于维护，每组蒸发源之间有隔板隔离，避免相互污染。
 
 
工作条件及主要技术参数：
 1、供电：～380V三相五线供电系统（整机容量6KW），环境温
 
 
度10℃～40℃，冷却水循环量0.3M3/H，水温度15℃～
 
 
30℃，气源压力6公斤，6毫米塑料管。
        2、极限真空：8×10-4Pa（新设备）；工作背景真空：2×10-3Pa；
 
 
恢复工作背景真空时间30分钟左右。
 
 
 
 五、热蒸发镀膜设备配置参数：
 
 
（一）、真空室及组件1套。
 1）、 450*450*500主真空室（包括：不锈钢U型室及门法兰1套、XF100观察窗及接管1套、可装电极及接管的底法兰1套、CF150法兰座及接管1套、CF63法兰座及接管1套、CF35法兰座及接管2套、旋转及挡板法兰座1套、KF16接口1件）。
 2）、 减速电机控制可旋转、定位及调速样品台1套。
 3）、 外控样品台旋转档板1套。
 4）、 金属及有机物蒸发源3套。（电极水冷）
 5）、 外控蒸发源挡板3套。（电动磁力转轴）
 6）、 带脚轮、支脚、围板机架1套。
 （二）、真空获得1套。
 1）、 真空室与插板阀连接管道1套（包括KF40预抽阀连接法兰）。
 2）、 KF40手动高真空角阀2只。
 3）、 CF150插板阀2只。
 4）、 600升复合分子泵1套。
 5）、 KF25手动高真空角阀1只。
 6）、 KF40*1米前级不锈钢波纹管2根。
 7）、 KF40四通通1只。
 8）、 KF25*1.3米预抽不锈钢波纹管1根。
 9）、 KF40压差阀1只。
 10）、 合资6升机械泵1台。
 11）、 KF16手动充气阀2只。
 12）、 KF40卡箍9只。
 13）、 KF25卡箍3只。
 14）、 KF16卡箍3只。
 （三）、电器控制1套。
 1）、 1.6米机柜1套。
 2）、 真空测量1套。（复合真空计）
 3）、 蒸发加热控制电源3套（含变压器）。
 4）、 旋转、阀门、照明及蒸发源挡板控制电源1套。
 5）、 总控电源1套。
 （四）、其余配件：
 1）、 样品架2套
 2）、 过渡真空室1套
 3）、 磁力传送杆1套
 4）、 膜厚仪1套。（注：水冷探头）
 5）、 冷却水循环机1套
 （五）、密封件及紧固件等。
 （六）、设计调试及运输。
 
 
 
 

  
 
 
 
 
 
 
 热蒸发镀膜机--  新闻资讯使用说明 
 

    
 
 
 热蒸发镀膜机--  新闻资讯采购须知